用于制造薄层的装置和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104080946104080946A(43)申请公布日2014.10.01(21)申请号201280038501.8(51)Int.Cl.(22)申请日2012.07.26C23C16/458(2006.01)C23C16/54(2006.01)(30)优先权数据C23C16/455(2006.01)102011080202.92011.08.01DEH01L31/18(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.01.30(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2012/0646532012.07.26(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/017514DE2013.02.07(71)申请人吉布尔·施密德有限责任公司地址德国弗罗伊登斯塔特(72)发明人C·施密德D·哈贝尔曼J·豪恩格斯C·阿特马T·斯图尔特K·普罗文查(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001代理人周志明杨国治权权利要求书2页利要求书2页说明书6页说明书6页附图4页附图4页(54)发明名称用于制造薄层的装置和方法(57)摘要一种用于在制造太阳能电池时在衬底上制造薄层的装置，其中，采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层，在该装置中，衬底在连续运行中在水平的输送带上被输送，并通过APCVD涂层法被涂层。在此，输送带具有输送轮，所述输送轮由耐热的非金属的材料优选陶瓷。在输送带的背离涂层装置的一侧设置有加热机构和/或喷淋气体供应机构。CN104080946ACN104896ACN104080946A权利要求书1/2页1.一种用于在衬底上制造薄层特别是用于制造太阳能电池的装置，带有：-APCVD涂层装置(13)，用于采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层；-带有输送轮(28)的水平的输送带(27)，用于在连续运行中输送衬底，所述输送轮由耐热的非金属的材料构成；和-设置在输送带的背离APCVD涂层装置的一侧的加热机构(14)和/或喷淋气体供应机构(34)。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，输送带由陶瓷材料构成，或者用这种材料优选氧化铝被涂层。3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，APCVD涂层装置设置在输送带上方，加热机构和/或喷淋气体供应机构在APCVD涂层装置的区域中设置在输送带下方。4.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，沿行进方向在APCVD涂层装置之前设置有用于衬底的预热机构(20、21)，和/或在APCVD涂层装置之后设置有用于衬底的后续加热机构(23、24)，特别是设置在输送带的与APCVD涂层装置相同的一侧。5.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，沿着输送带以预定的距离彼此间隔开地设置有至少两个APCVD涂层装置(113a、113b)。6.如权利要求5所述的装置，其特征在于，在每两个APCVD涂层装置之间设置有输送带的被加热的区域，该区域设有布置在输送带上方的加热机构(125、126)。7.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，APCVD涂层装置被设计用于高于600℃、优选高于800℃、特别是高于1000℃的沉积温度。8.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，作为加热机构，特别是在APCVD涂层装置之外，设置带有热气流优选空气、N2或气体混合物的加热器。9.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，在相应的APCVD涂层装置上设置有废气系统(15)。10.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，喷淋气体供应机构被设计用于特别是借助喷嘴从下面对衬底施加喷淋气体。11.如权利要求1-10中任一项所述的装置，其特征在于，喷淋气体供应机构被设计用于使得喷淋气体作为用于加热或冷却衬底的调温介质对准衬底。12.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，输送带可相对于余下的装置向下下降。13.一种用于利用根据前述权利要求中任一项的装置在连续运行中制造薄层的方法，其特征在于，作为薄层，-制造介电的层，或者把该层敷设到衬底上，该层优选选自如下组：SiO2、Al2O3、SiNx、AlN，或者-在太阳能电池上敷设特别是作为TCO的导电的层，或者-将掺杂层特别是P掺杂物、B掺杂物或Ge掺杂物敷设到作为衬底的太阳能电池上，或者-在作为衬底的太阳能电池上敷设抗反射层，所述抗反射层特别是选自由SiNx、MgO、MnO、TiO2、ZrO2、MoSi2构成的组。14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，在APCVD涂层装置的区域中从下面对衬底2CN104080946A权利要求书2/2页施加喷淋气体。3CN104080946A说明书1/6页用于制造薄层的装