刻划轮及其制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104261667104261667A(43)申请公布日2015.01.07(21)申请号201310522755.3(22)申请日2013.10.29(30)优先权数据2012-2398352012.10.31JP2012-2540122012.11.20JP(71)申请人三星钻石工业股份有限公司地址日本大阪府摄津市香露园32番12号(72)发明人福西利夫北市充留井直子(74)专利代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019代理人寿宁张华辉(51)Int.Cl.C03B33/10(2006.01)权权利要求书2页利要求书2页说明书8页说明书8页附图5页附图5页(54)发明名称刻划轮及其制造方法(57)摘要本发明提供一种对刻划轮的表面进行脱钴处理，且于贯通孔不具有脱钴层的刻划轮。其解决手段为：作为圆板状的刻划轮基材，是使用对含有碳化钨粒子为主成分、钴为结合材的超硬合金的表层进行了脱钴处理。对刻划轮基材的贯通孔施以密封并浸渍于酸性溶液中而进行脱钴处理、或者去除贯通孔内的脱钴层。之后于刻划轮基材的刀前端借由CVD法形成钻石膜，对棱线部分进行研磨。借此，可使钻石膜的密着性变佳、剥离的可能性减少，且使刻划轮长寿命化。CN104261667ACN104267ACN104261667A权利要求书1/2页1.一种刻划轮，其特征在于具备：刻划轮基材，是圆板状并于中心位置具有供销插入的贯通孔；以及钻石膜，形成于该刻划轮基材的刀前端部分；该刻划轮基材，使用有含有碳化钨粒子为主成分、钴为结合材的超硬合金，且于除了该贯通孔的内壁外的刻划轮基材的表面的至少形成该钻石膜的刀前端部分，具有平均厚度为1～15μm的深度的脱钴层。2.一种刻划轮的制造方法，该刻划轮于圆板的中心位置具有供销插入的贯通孔、且沿着圆周部具有刀前端，其特征在于：于使用有含有碳化钨粒子为主成分、钴为结合材的超硬合金的圆板的中心位置形成贯通孔；于该圆板的圆周部形成刀前端部分以形成刻划轮基材；于该刻划轮基材的贯通孔的开口涂布密封材并实施脱钴处理；于该刻划轮基材的刀前端部分借由化学气相成长法形成钻石膜。3.一种刻划轮的制造方法，该刻划轮于圆板的中心位置具有供销插入的贯通孔、且沿着圆周部具有刀前端，其特征在于：于使用有含有碳化钨粒子为主成分、钴为结合材的超硬合金的圆板的中心位置形成贯通孔；于该圆板的圆周部形成刀前端部分以形成刻划轮基材；对该刻划轮基材实施脱钴处理；对该贯通孔的内壁的脱钴层进行研削而去除脱钴层；于该刻划轮基材的刀前端部分借由化学气相成长法形成钻石膜。4.如权利要求3所述的刻划轮的制造方法，其特征在于其中该脱钴层的去除步骤，于该刻划轮基材的贯通孔插入于表面固着有磨粒的销并借由进行虚拟刻划而去除脱钴层。5.如权利要求3所述的刻划轮的制造方法，其特征在于其中该脱钴层的去除步骤，借由使含有磨粒的流体通过该刻划轮基材的贯通孔而去除脱钴层。6.如权利要求3所述的刻划轮的制造方法，其特征在于其中该脱钴层的去除步骤，借由对该刻划轮基材的贯通孔进行搪磨加工而去除脱钴层。7.一种刻划轮，其特征在于具有：刻划轮基材，沿着圆周部形成棱线，具有由该棱线与该棱线的两侧的倾斜面所构成的刀前端，且于该棱线的两侧的区域具有与该棱线平行的研削条痕；以及钻石膜，形成于该刻划轮基材的刀前端表面。8.如权利要求7所述的刻划轮，其特征在于其中形成于该刻划轮基材的研削条痕，是于该棱线的两侧的倾斜面以棱线为中心于宽度20μm以上的范围所形成。9.一种刻划轮的制造方法，该刻划轮沿着圆板的圆周部具有由棱线与该棱线的两侧的倾斜面所构成的刀前端，其特征在于：对刀前端部分以与该棱线平行地进行研磨而构成刻划轮基材；于该刻划轮基材的刀前端部分借由化学气相成长法形成钻石膜。10.如权利要求9所述的刻划轮的制造方法，其特征在于其中于该刻划轮基材的刀前端部分，借由以该棱线为中心而对宽度20μm以上的范围以与该棱线平行地进行研磨而构2CN104261667A权利要求书2/2页成刻划轮基材。3CN104261667A说明书1/8页刻划轮及其制造方法技术领域[0001]本发明是关于一种用以对脆性材料基板压接、转动而进行刻划的刻划轮及其制造方法。背景技术[0002]习知的刻划轮，如于专利文献1～3所示，是以超硬合金或多结晶烧结钻石(以下，称为PCD)制的圆板作为基材。PCD圆板是使钻石粒子与钴(Co)等一起烧结而成。刻划轮，是借由从成为基材的圆板的两侧呈互相倾斜地削入圆周的边缘，且于圆周面形成V字形的刀前端而构成。将以如此方式形成的刻划轮，以呈旋转自如地轴装于刻划装置的刻划头等，并以既定的负载按压于脆性材料基板，使其沿脆性材料基板的面移动而借此可进