

高温真空炉连续测温解决方案探讨.docx
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高温真空炉连续测温解决方案探讨.docx
高温真空炉连续测温解决方案探讨随着科技的不断发展,人们对材料加工的要求也越来越高。在高温环境下,材料的加工难度更加增加,需要将温度控制得非常精确,同时在制造过程中还需要保证材料不受污染。因此,高温真空炉被广泛应用于金属加工、陶瓷制造、太阳能电池等领域。高温真空炉对于温度的要求非常高,常见的温度范围在800℃以上。然而,随着温度的上升,热辐射的能量也会增加,热电偶受到的干扰也会随之增大。因此,在高温下精确地测量温度是十分具有挑战性的任务。为了解决高温真空炉温度测量难题,我们可以采用连续测温的方法。连续测温的
高温真空炉的测温装置.pdf
本发明公开了一种高温真空炉的测温装置,包括透光部件和红外测温仪,还包括挡板和驱动所述挡板遮挡或远离所述透光部件的动力部件,以及设于所述高温真空炉和所述红外测温仪之间的支架,该支架设有真空通道,所述透光部件设于真空通道的入口处,所述挡板设于所述真空通道的内部;所述动力部件的固定部与所述支架固定连接,活动部与所述挡板固定连接。挡板隔离透光部件和高温真空炉,避免高温真空炉的炉体及附件在高温条件下的挥发物凝结在透光部件上,提高温度测量的准确性;同时减少透光部件被污染的可能性,延长透光部件的使用寿命,降低透光部件的
可连续测温的双室真空炉.pdf
本发明公开了一种可连续测温的双室真空炉,其特征在于在加热室和冷却室的料盘支撑架体上分别固定安装插座,插座的插孔面朝上,插座的连接导线穿过炉体与炉外温度记录仪连接;料盘侧壁或底面上固定安装有热电偶插头,热电偶插头的导电柱朝下设置,料盘上热电偶插头的安装位置与料盘支撑架体上插座的安装位置相对应,料盘位于料盘支撑架体上,其热电偶插头的导电柱位于插座的插孔内。特点是:解决了双室真空炉无法对工件加热及淬火过程的连续温度监测问题,从而实现了连续准确监测加热及淬火温度,保证热处理的效果。
一种半连续双室高温真空炉.pdf
本发明涉及一种真空设备,具体涉及低生产成本、高效率、无污染、操作性好的实现光棒新工艺烧结的半连续双室高温真空炉,结构特征包括一是配有抽气装置,设备具备完善的密封结构;二是立式双室结构,上部是准备室工件由此进出,下部是加热室工件在此加热烧结,中间插板阀可以完全将上下两室断开;三是第三层是传动装置;四是工件置于真空腔体内的高纯石墨筒内,提高生产效率、降低生产成本。
真空炉测温装置.pdf
本发明公开了一种真空炉测温装置,应用于具有真空腔室的真空炉,所述真空炉测温装置包括:安装座;支架;直线驱动机构;波纹管,该波纹管的一端通过第一静密封结构固定安装在安装座上,另一端通过第二静密封结构固定安装在所述驱动端;以及热电偶,该热电偶的座端通过所述第二静密封结构装配在所述驱动端,该热电偶的本体则在过孔、安装孔以及中心孔所确定的方向上被直线驱动机构驱动而具有工作行程。依据本发明变动密封为静密封,从而提密封性能比较好。