用激光技术制造导通孔——更密集设计方法的选择.docx
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用激光技术制造导通孔——更密集设计方法的选择.docx
用激光技术制造导通孔——更密集设计方法的选择激光技术在导通孔制造中的应用是现代电子工程中的重要环节之一。随着电子设备的不断发展和微型化趋势的不断增强,对导通孔的要求也日益严格。本文将从增加密度、提高精度和减少成本等方面探讨选择更密集设计方法的重要性。首先,选择更密集设计方法可以增加导通孔的密度。随着电子产品尺寸的减小,对于面积的有效利用变得尤为重要。通过采用更密集的设计方法,可以在有限的空间内容纳更多的导通孔,从而提高电路板的功能性和性能。例如,通过增加导通孔的数量和紧密排列,可以提高信号传导的效率和可靠
密集条形通孔冲压方法及密集条形通孔冲压设备.pdf
本发明提供一种密集条形通孔冲压方法及密集条形通孔冲压设备,涉及板材冲压技术领域,其中密集条形通孔冲压方法包括:将板材夹持固定在夹持装置上;对板材进行半冲孔,形成沿第一方向等间隔排列的多个条形盲孔;对位于相邻的条形盲孔之间的区域进行全冲孔,形成多个第一条形通孔,第一条形通孔与条形盲孔交替间隔排布;对多个条形盲孔进行全冲孔,每个条形盲孔对应形成一个第二条形通孔。本发明通过分批次冲压形成第一条形通孔和第二条形通孔,以及先进行半冲孔、后进行全冲孔的方式,降低了条形通孔变形或扭转的风险,解决了现有技术中密集条形通孔
通孔的制造方法.pdf
本发明提供一种通孔的制造方法,通过增加一道通孔底部上的第一扩散阻挡层的过刻蚀以及一道第二扩散阻挡层的沉积,将去除光阻层时在通孔底部上堆积的残留物去除,并保证扩散阻挡层的整体效果,从而可以保证通孔的上下连通性,改善通孔的导通性能。
通孔的制造方法.pdf
本发明公开了一种通孔的制造方法,包括步骤:步骤一、在衬底上形成通孔的开口。步骤二、采用SIP工艺形成由Ti层和第一TiN层叠加的第一层阻挡层。步骤三、形成由第二TiN层组成的第二层阻挡层。步骤四、进行金属钨沉积将通孔的开口完全填充。本发明能改善阻挡层的成膜质量,防止钨残留,提高产品结构的完整性。
封装基板通孔的激光加工方法.pdf
本发明公开了一种封装基板通孔的激光加工方法,属于印制线路板技术领域。该方法包括定位通孔制作、激光加工通孔、镀铜、蚀刻工序,其中:定位通孔制作工序中,利用机械钻孔的方式在封装基板上制作定位通孔;激光加工通孔工序中,先在封装基板的一面,利用激光光束,于预定加工的通孔位置形成半通的盲孔结构;然后将封装基板翻到另一面,利用定位通孔定位后,在与该盲孔相对的位置,利用激光加工形成通孔。采用该方法可实现厚径比2:1以下产品的完全电镀填充,并且解决了由于药水交换不良导致的电镀过早闭塞的问题,提高了产品的可靠性。