非晶钛铝薄膜结构的RDF分析.docx
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非晶钛铝薄膜结构的RDF分析.docx
非晶钛铝薄膜结构的RDF分析论文题目:非晶钛铝薄膜结构的径向分布函数(RDF)分析摘要:非晶薄膜材料具有广泛的应用前景,尤其是在光学、电子器件和涂层等领域。非晶钛铝(TiAl)薄膜是一种重要的非晶薄膜材料,其具有良好的耐腐蚀性能、高温稳定性和机械强度。非晶薄膜的结构特点对其性能具有重要影响。径向分布函数(RDF)是一种常用的分析方法,用于研究材料的结构特征。本论文将以非晶钛铝薄膜为研究对象,利用RDF分析方法,探索其结构与性能之间的关系。1.引言非晶薄膜材料在光学、电子器件和涂层等领域具有广泛应用。其结构
含钛非晶碳薄膜的制备、组织结构与性能.docx
含钛非晶碳薄膜的制备、组织结构与性能摘要:随着电子工业的发展,薄膜技术得到了广泛的应用和发展。其中非晶碳薄膜具有重要的研究价值和应用前景。本文研究了含钛非晶碳薄膜的制备方法、组织结构和性能。结果表明,含钛非晶碳薄膜具有良好的热稳定性、机械性能和化学稳定性,适用于电子材料、生物医学和石油化工等领域。关键词:非晶碳薄膜,含钛,制备,组织结构,性能Abstract:Withthedevelopmentofelectronicsindustry,thinfilmtechnologyhasbeenwidelyuse
铝在低温下诱导非晶硅薄膜晶化为多晶硅薄膜的方法.pdf
本发明涉及一种铝在低温下诱导非晶硅制备多晶硅薄膜的方法,其属于多晶硅薄膜制备技术领域。利用金属铝的催化作用,在低温下通过两步退火法,将非晶硅薄膜诱导晶化为多晶硅薄膜,以减少金属沾污。其主要技术方案是:首先在玻璃上作为生长衬底,后续依次制备非晶硅、二氧化硅及铝膜,形成多重界面的结构。然后,进行两步退火,先进行快退,后续将样品置退火炉中进行慢退火、再腐蚀去铝,并用氮气吹干。最后可制得铝诱导晶化的多晶硅薄膜,晶粒大小约为50-200nm。本发明可有效缓解金属诱导晶化(MIC)技术中,金属污染,适用于场效应晶体管
一种含钛非晶碳高硬耐磨薄膜.pdf
本发明公开的含钛非晶碳高硬耐磨薄膜,是在金属基体上自下而上依次沉积有纯钛底层、碳钛复合梯度过渡层和含钛非晶碳层,含钛非晶碳层中弥散分布着粒径为5~20nm的TiC晶粒,其中碳的原子百分比是74.2at.%~98at.%,钛的原子百分比是2~23.8at.%。该薄膜具有高硬度和良好的韧性、低摩擦系数和极高的耐磨性能,并与金属基体有良好的结合强度,可应用在轴承、陀螺仪、齿轮和金属切削工具等的表面,提高使用寿命。并可应用于生物医学中,如人工髋关节表面等。
干法刻蚀两步法铝诱导非晶硅晶化薄膜的方法.pdf
本发明涉及一种干法刻蚀两步法铝诱导非晶硅晶化薄膜的方法,属于多晶硅薄膜制备技术领域。利用金属铝的催化作用,在低温下通过两步退火法,将非晶硅薄膜诱导晶化为多晶硅薄膜,以减少金属沾污。首先在玻璃上作为生长衬底,后续依次制备非晶硅、二氧化硅及铝膜,形成多重界面的结构。然后,进行两步退火,先进行快退,后续将样品置退火炉中进行慢退火、再刻蚀去铝。最后可制得铝诱导晶化的多晶硅薄膜,晶粒大小约为50-200nm。本发明可有效缓解金属诱导晶化(MIC)技术中,金属污染,适用于场效应晶体管和薄膜太阳能电池制备。