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现代半导体器件物理与工艺ppt课件.ppt

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图形曝光与光刻图形曝光与刻蚀光学图形曝光－洁净室光刻机掩模版抗蚀剂图案转移分辨率增加技术新一代图形曝光技术电子束图形曝光SCALPEL电子束抗蚀剂邻近效应极远紫外光图形曝光（EUV）X射线图形曝光（XRL）离子束图形曝光不同图形曝光方法的比较湿法化学腐蚀（WCE）硅的腐蚀二氧化硅的腐蚀氮化硅与多晶硅的腐蚀铝腐蚀砷化镓的腐蚀干法刻蚀干法刻蚀基本等离子体理论刻蚀机制、等离子体探测与终点的控制等离子体探测终点控制反应等离子体刻蚀技术与设备反应离子刻蚀（RIE）电子回旋共振（ECR）等离子体刻蚀机其他高密度等离子体刻蚀机集成等离子体工艺反应等离子体刻蚀的应用硅沟槽刻蚀多晶硅与多晶硅化物栅极刻蚀介质刻蚀金属导线刻蚀－AlCuW感谢亲观看此幻灯片，此课件部分内容来源于网络， 如有侵权请及时联系我们删除，谢谢配合！