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化学气相沉积技术目录CVD(化学气相沉积法):化学气相沉积是在一定的真空度和温度下,将几种含有构成沉积膜层的材料元素的单质或化合物反应源的气体,通过化学反应而生成固态物质并沉积在基材上的成膜方法。CVD法的主要特点CVD法制备薄膜的过程 常见的CVD反应方式CVD反应物质源CVD制备薄膜时基材的温度区域CVD装置的组成CVD装置的选择影响CVD沉积层质量的因素CVD的种类CVD的应用CVD的发展Theend此课件下载可自行编辑修改,此课件供参考! 部分内容来源于网络,如有侵权请与我联系删除!感谢你的观看!