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化学气相沉积技术PPT课件.pptx
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123456温度：800~1200ºC，形成所谓高温氧化层（HighTemperatureOxidelayer，HTO）。可用水蒸气或氧气作为氧化剂，称为湿氧化或干氧化（wetordryoxidation）。氧化环境中通常含有百分之几的盐酸（HCl），用于去除氧化物中的金属离子。891011121314151617181920212223242526272829302024/8/1132333435363738394041424344454647484950515253545556575859606120
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化学气相沉积技术目录CVD(化学气相沉积法):化学气相沉积是在一定的真空度和温度下，将几种含有构成沉积膜层的材料元素的单质或化合物反应源的气体，通过化学反应而生成固态物质并沉积在基材上的成膜方法。CVD法的主要特点CVD法制备薄膜的过程常见的CVD反应方式CVD反应物质源CVD制备薄膜时基材的温度区域CVD装置的组成CVD装置的选择影响CVD沉积层质量的因素CVD的种类CVD的应用CVD的发展Theend此课件下载可自行编辑修改，此课件供参考！部分内容来源于网络，如有侵权请与我联系删除！感谢你的观看！
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