光刻-光刻胶显影和先进的光刻技术.ppt
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光刻-光刻胶显影和先进的光刻技术.ppt
第15章光刻:光刻胶显影和先进的光刻技术目标提纲1.引言2.曝光后烘培DUV曝光后烘培常规I线胶PEB3.显影光刻胶显影问题负胶正胶正胶显影液显影方法连续喷雾(continuousspray)显影旋覆浸没(puddle)显影光刻胶显影参数4.坚膜5.显影检查6.先进的光刻技术下一代光刻技术极紫外(EUV)光刻技术角度限制投影电子束光刻技术(SCALPEL)SCALPEL系统结构SCALPEL工作原理离子束投影光刻技术(IPL)X射线光刻技术7.显影质量测量关键尺寸沾污表面缺陷套准对准小结小结作业
光刻-光刻胶显影和先进的光刻技术.ppt
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光刻胶显影液.pdf
本发明所提供的光刻胶显影液包含特定结构的非离子性表面活性剂及碱源,其在进行显影工程时,能够维持微细图案的显影性,并且减少因化合物残留所导致的残影及气泡的产生。
正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法.pdf
本发明提供了一种正性光刻胶用显影液,包括:碱性物质、水、表面活性剂和蛋白水解酶。本发明还提供了一种光刻工艺中的显影方法,包括以下步骤:提供半导体晶片,所述半导体晶片上具有由正性光刻胶形成的光敏材料层,所述光敏材料层与所述半导体晶片之间具有胺类增黏剂形成的膜;向所述光敏材料层喷洒上述技术方案所述的显影液,使所述光敏材料层可溶解区域的光敏材料溶解;向所述光敏材料层喷洒去离子水,去除所述溶解后的光敏材料。本发明提供的正性光刻胶显影液中,蛋白水解酶能够催化曝光过程中生成的溶解度较小的肽键化合物进行水解,使其溶于显
光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法.pdf
本发明涉及光刻胶技术领域,具体而言,涉及一种光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法。光刻胶,包括有机溶剂、光致酸产生剂及氧化锆纳米颗粒成膜树脂,将丙醇锆与不饱和有机羧酸混合加热制备所述氧化锆纳米颗粒成膜树脂。光致酸产生剂能够引发氧化锆纳米颗粒成膜树脂团聚,且具有式I和/或式II所示结构,其中R