氮化镓准垂直肖特基二极管制备与结终端技术研究的任务书.docx
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氮化镓准垂直肖特基二极管制备与结终端技术研究氮化镓准垂直肖特基二极管制备与结终端技术研究引言:氮化镓材料由于其优异的物性特点,被广泛应用于电子和光电子器件中。其中,氮化镓准垂直肖特基二极管由于其独特的结构和性能,在高频、高功率和高温等特殊环境下具有广阔的应用前景。本文将介绍氮化镓准垂直肖特基二极管的制备方法和结终端技术,并对其研究现状和未来发展方向进行探讨。一、氮化镓准垂直肖特基二极管的制备方法1.分子束外延法(MBE)分子束外延法是一种常用的氮化镓薄膜生长技术,能够制备高质量的氮化镓准垂直肖特基二极管。
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氮化镓准垂直肖特基二极管制备与结终端技术研究的任务书任务书一、任务背景氮化镓作为一种重要的半导体材料,具有优异的电学、光学、热学、力学等性能,在芯片、半导体照明、高频器件、太阳能电池等领域有着广泛的应用前景。在氮化镓器件中,氮化镓准垂直肖特基二极管是一种重要的组成部分,具有低漏电流密度、快速开关速度、高频响应等优点。然而,氮化镓准垂直肖特基二极管的制备复杂、技术难度高,目前制备工艺还存在一定的问题和不足。二、任务目标本次任务旨在对氮化镓准垂直肖特基二极管的制备和结终端技术进行研究,探讨制备工艺及其在器件性
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垂直结构氮化镓肖特基二极管的研究垂直结构氮化镓肖特基二极管的研究摘要:垂直结构氮化镓肖特基二极管(VSG-SBD)作为一种新型的功率电子器件,在高频、高功率、高温、高辐射环境下具有广阔的应用前景。本文综述了VSG-SBD器件的原理、制备方法以及性能特点,并对其在绿色能源、射频收发模块等领域的应用进行了讨论。1.引言氮化镓(GaN)作为一种宽禁带半导体材料,具有高电子迁移率、高饱和电子漂移速度和高耐高温特性,被广泛应用于高功率、高频率和高温度的电子器件中。肖特基结构作为一种非晶半导体材料与金属的接触方式,具
耐压氮化镓肖特基二极管的制作方法.pdf
本发明提供一种耐压氮化镓肖特基二极管的制作方法,该方法首先通过在器件的表面上制作氮化镓肖特基二极管的阳极和阴极;并在器件的表面上依次淀积第一PETEOS氧化层和第一氮化硅层;再通过对部分阳极表面区域和部分阴极表面区域上方的第一PETEOS氧化层和第一氮化硅层进行刻蚀,生成第一阳极通孔和第一阴极通孔;最后通过在器件的表面上淀积一层导通金属,并对所述导通金属进行刻蚀,保留位于第一阳极通孔和第一阴极通孔内的金属,形成耐压氮化镓肖特基二极管器件。降低了所述器件表面的粗糙程度,减少了器件表面吸附的杂质和静电,缓解了
一种亚垂直结构氮化镓肖特基势垒二极管及其制造方法.pdf
本发明公开一种亚垂直结构氮化镓肖特基势垒二极管及其制造方法,包括由下至上依次设置的衬底(1)、缓冲层(2)、n<base:Sup>+</base:Sup>?GaN外延层(3a)、n<base:Sup>?</base:Sup>?GaN外延层(3b),n<base:Sup>?</base:Sup>?GaN外延层(3b)上表面为肖特基电极设置区域(13b),n<base:Sup>+</base:Sup>?GaN外延层(3a)上表面局部露出部分为欧姆电极设置区域(13a);第一绝缘保护层(6a)覆盖在欧姆电极设置