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沟槽式肖特基用高均匀性硅外延支撑层高速生长工艺研究.pptx
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汇报人：目录PARTONEPARTTWO选择合适的硅外延设备优化硅外延工艺参数确定合适的硅源和气体流量控制温度和时间PARTTHREE温度控制气体流量和压力控制衬底选择和处理表面形貌和结构分析PARTFOUR确定肖特基的几何形状和尺寸设计沟槽式肖特基的电极结构优化肖特基的表面处理工艺测试肖特基的性能指标PARTFIVE分析硅外延支撑层的厚度和组分分布对肖特基性能的影响研究硅外延支撑层的表面形貌和结构对肖特基性能的影响探讨硅外延支撑层的掺杂浓度对肖特基性能的影响评估硅外延支撑层对沟槽式肖特基稳定性和可靠性的
2024-10-07
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