PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的中期报告.docx
快乐****蜜蜂
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的中期报告.docx
PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的中期报告本研究旨在通过PLD(pulsedlaserdeposition)方法沉积ZnO薄膜,并研究其光电性能。目前已完成实验中期,并取得以下进展:1.器材准备本研究所需的PLD实验器材已全部准备就绪,包括激光器、气相靶材等。2.沉积工艺优化通过对PLD沉积工艺参数的不断调整和优化,已取得了比较理想的ZnO薄膜沉积效果。目前的最优工艺参数为:激光功率为200mJ,气压为15Pa,衬底温度为室温。3.薄膜表征我们采用了多种表征方法对沉积得到的ZnO薄膜进行了分析。其
PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的任务书.docx
PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的任务书任务名称:PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究任务描述:本研究旨在采用脉冲激光沉积(PLD)方法制备高质量的氧化锌(ZnO)薄膜,并研究其光电性能。具体任务包括:1.采用PLD方法制备ZnO薄膜,优化沉积参数,得到高质量、均匀、致密的ZnO薄膜。2.对制备的ZnO薄膜进行表征,包括薄膜的结构、形貌、光学和电学性质等方面的研究。3.研究ZnO薄膜的光电性质,包括光吸收、光致发光、光电导、光电流和光阴极等性能。4.探讨ZnO薄膜光电性能与其结构、形貌及制备参
PLD法制备ZnO薄膜及其特性研究的中期报告.docx
PLD法制备ZnO薄膜及其特性研究的中期报告一、研究背景与目的:ZnO薄膜作为一种重要的半导体材料,具有很多有趣的物理性质和广泛的应用前景。PLD法是制备ZnO薄膜的一种有效方法,其优点是操作简单、制备过程可控、薄膜品质高。本课题旨在通过PLD法制备高质量的ZnO薄膜,并对其微观结构、光学性质等进行研究。二、研究内容及进展:1、实验条件的确定:我们选取了KRF准分子激光器作为激光源,氧气和氮气作为辅助气体,以ZnO靶为材料,通过调整激光功率、气体压力等参数,确定了最优的制备条件。2、样品制备及表征:我们采
倾斜磁控溅射低温沉积ZnO∶Al薄膜及其光电性能的研究.docx
倾斜磁控溅射低温沉积ZnO∶Al薄膜及其光电性能的研究近年来,随着信息技术的不断进步,针对透明导电膜材料的需求日益增加。其中,ZnO∶Al薄膜因其良好的透明性和导电性能被广泛应用于太阳能电池、显示器件、光电器件等领域。本文通过倾斜磁控溅射低温沉积的方法,在玻璃基片上制备了不同Al掺杂浓度的ZnO∶Al薄膜,并对其光电性能进行了研究。实验中使用的制备装置为自主搭建的倾斜磁控溅射设备,基片材料为玻璃。制备前先在基片表面进行清洗处理,然后进行预处理,包括真空抽气、通入氩气以及等离子体清洗等步骤。接着,使用纯度为
ZnO薄膜和异质结构的光电性能研究的中期报告.docx
ZnO薄膜和异质结构的光电性能研究的中期报告本次研究的目的是探究ZnO薄膜和异质结构的光电性能特性,以期为光电器件的制备提供一定的理论依据。中期报告主要介绍了目前的研究进展和计划。一、ZnO异质结构的制备为了得到具有良好光电性能的ZnO异质结构,我们采用了两种制备方法:热蒸发法和溶液法。通过不同的方法实现ZnO异质结构的控制生长,并对所得样品性能进行了表征。二、ZnO异质结构的结构表征对样品进行了XRD、TEM、PL等多种表征手段,发现ZnO异质结构中的ZnO发生晶格畸变,其中的缺陷和杂质等的存在对其光电