PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的任务书.docx
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PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的任务书.docx
PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的任务书任务名称:PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究任务描述:本研究旨在采用脉冲激光沉积(PLD)方法制备高质量的氧化锌(ZnO)薄膜,并研究其光电性能。具体任务包括:1.采用PLD方法制备ZnO薄膜,优化沉积参数,得到高质量、均匀、致密的ZnO薄膜。2.对制备的ZnO薄膜进行表征,包括薄膜的结构、形貌、光学和电学性质等方面的研究。3.研究ZnO薄膜的光电性质,包括光吸收、光致发光、光电导、光电流和光阴极等性能。4.探讨ZnO薄膜光电性能与其结构、形貌及制备参
PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的中期报告.docx
PLD方法沉积ZnO薄膜及其光电性能研究的中期报告本研究旨在通过PLD(pulsedlaserdeposition)方法沉积ZnO薄膜,并研究其光电性能。目前已完成实验中期,并取得以下进展:1.器材准备本研究所需的PLD实验器材已全部准备就绪,包括激光器、气相靶材等。2.沉积工艺优化通过对PLD沉积工艺参数的不断调整和优化,已取得了比较理想的ZnO薄膜沉积效果。目前的最优工艺参数为:激光功率为200mJ,气压为15Pa,衬底温度为室温。3.薄膜表征我们采用了多种表征方法对沉积得到的ZnO薄膜进行了分析。其
倾斜磁控溅射低温沉积ZnO∶Al薄膜及其光电性能的研究.docx
倾斜磁控溅射低温沉积ZnO∶Al薄膜及其光电性能的研究近年来,随着信息技术的不断进步,针对透明导电膜材料的需求日益增加。其中,ZnO∶Al薄膜因其良好的透明性和导电性能被广泛应用于太阳能电池、显示器件、光电器件等领域。本文通过倾斜磁控溅射低温沉积的方法,在玻璃基片上制备了不同Al掺杂浓度的ZnO∶Al薄膜,并对其光电性能进行了研究。实验中使用的制备装置为自主搭建的倾斜磁控溅射设备,基片材料为玻璃。制备前先在基片表面进行清洗处理,然后进行预处理,包括真空抽气、通入氩气以及等离子体清洗等步骤。接着,使用纯度为
PLD法制备ZnO基透明导电薄膜及其性能研究的任务书.docx
PLD法制备ZnO基透明导电薄膜及其性能研究的任务书任务书一、背景与意义随着现代电子技术的飞速发展,透明导电材料的需求越来越大。在平板显示器、光电器件、太阳能电池、触摸屏等领域,透明导电材料都被广泛应用。而氧化锌(ZnO)因其优良的透明导电性能和良好的光学特性,被视为理想的透明导电材料之一。然而,普通的ZnO材料的导电性能较弱,因此需要进行掺杂或添加其他材料来提高其导电性能。PLD(PulsedLaserDeposition)是一种利用激光脉冲沉积技术制备薄膜的方法。相比于传统的沉积方法(如化学气相沉积、
PLD法制备ZnO薄膜及其特性研究的任务书.docx
PLD法制备ZnO薄膜及其特性研究的任务书任务书任务名称:PLD法制备ZnO薄膜及其特性研究任务背景:氧化锌(ZnO)作为一种重要的半导体材料,在各种领域均有广泛应用。它具有高光电转换效率、优异的光电性能和良好的化学稳定性等优点,因此被广泛用于太阳能电池、荧光显示及发光二极管等领域。而PLD法是一种简单易操作、具有高质量薄膜、可控性好等优点的薄膜制备方法,因此本次研究将采用PLD法制备ZnO薄膜。任务内容:1.研究PLD法制备ZnO薄膜的制备工艺,包括探索不同的气相压力、激光功率和衬底温度对薄膜质量的影响