

高真空磁控溅射.ppt
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薄膜实验报告,磁控溅射与高真空成膜.doc
电子科技大学实验报告姓名:郭章学号:2010054020022指导教师:许向东日期:2013年6月12日一:实验室名称:光电楼薄膜制备实验室二:实验项目名称:薄膜制备工艺流程三:实验原理1,磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。利用Ar一02HYPERLINK"http://baike.baidu.com/view/1279132.ht
高真空磁控溅射镀膜机温度控制系统的研究的开题报告.docx
高真空磁控溅射镀膜机温度控制系统的研究的开题报告1.研究背景和意义:高真空磁控溅射镀膜机是一种高精度表面处理设备,广泛应用于导电膜、光学膜、保护膜等领域。在磁控溅射过程中,需要控制镀膜物料的温度,以保证镀膜质量和性能。因此,研究高真空磁控溅射镀膜机温度控制系统具有重要的现实意义。2.研究内容和目标:本研究旨在设计一套高真空磁控溅射镀膜机温度控制系统,包括硬件和软件两个方面。硬件上,将采用温度传感器、PID温度控制器和加热器等元件,实现对镀膜物料的温度控制。软件上,将利用MATLAB对PID参数进行优化,以
一种超高真空磁控溅射靶以及磁控溅射装置.pdf
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玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法.pdf
本发明属于真空溅射方法技术领域,具体的涉及一种玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法。玻璃经振荡清洗后高温烘干,然后将玻璃挂在真空磁控溅射反应炉的转架上;玻璃随真空磁控溅射反应炉的转架进行圆周旋转,通入氩气,调节真空度至1.2‑1.8×10