一种磁流变抛光液回收器.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106272086A(43)申请公布日2017.01.04(21)申请号201610833949.9(22)申请日2016.09.20(71)申请人中国工程物理研究院机械制造工艺研究所地址621999四川省绵阳市919信箱622分箱(72)发明人罗清黄文郑永成刘坤陈华何建国鱼胜利唐小会(74)专利代理机构中国工程物理研究院专利中心51210代理人翟长明韩志英(51)Int.Cl.B24B57/02(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图4页(54)发明名称一种磁流变抛光液回收器(57)摘要本发明公开了一种磁流变抛光液回收器，包括回收罩、导液管、永磁铁和屏蔽层。回收罩用于收集由抛光轮送来的磁流变液，导液管穿透回收罩用于吸走收集在回收罩中的磁流变液，永磁铁安装在回收罩与磁流变抛光轮之间形成磁性毛刷，屏蔽层包裹在永磁铁周围用于约束磁场作用范围、减弱磁场强度，避免磁流变抛光液变硬对所述磁流变抛光轮造成磨损。CN106272086ACN106272086A权利要求书1/1页1.一种磁流变抛光液回收器，其特征在于：所述的回收器包括回收罩（1）、导液管（2）、永磁铁（4）和屏蔽层（5），所述的回收罩（1）为圆柱形，圆柱形的顶部为上端面（9），圆柱形的底部为下端面（10），下端面（10）开有单面腔体（8）和引流口（3）；所述的导液管（2）为中空的导管，导液管（2）垂直贯穿回收罩（1）的上端面（9），与下端面（10）之间留有缝隙；所述的回收罩（1）的下端面（10）为与鼓型的磁流变抛光轮（6）相贴合的曲面，曲面的形状为与磁流变抛光轮（6）鼓型半径R1和磁流变抛光轮（6）回转半径R2相贯的曲面；所述的回收罩（1）的下端面（10）开有与回收罩（1）同轴的圆弧形凹槽Ⅰ（11），圆弧形凹槽Ⅰ（11）中安装有形状匹配的屏蔽层（5），屏蔽层（5）中开有与回收罩（1）同轴的圆弧形凹槽Ⅱ（12），圆弧形凹槽Ⅱ（12）中放置有形状匹配的永磁铁（4），永磁铁（4）和屏蔽层（5）的表面与磁流变抛光轮（6）相贴合，永磁铁（4）的充磁方向与回收罩（1）的轴线平行；所述的单面腔体（8）的开口端迎着使用后的附着在磁流变抛光轮（6）表面的磁流变抛光液，在外部磁场作用下，磁流变抛光液形成磁流变抛光缎带（7）；所述的引流口（3）的中心位置与磁流变抛光缎带（7）的中心位置重合。2.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液回收器：其特征在于，所述的引流口（3）为扇形开口，开口角度范围为90°~180°，开口高度大于磁流变抛光缎带（7）的厚度，小于所述回收罩（1）的厚度。3.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液回收器：其特征在于，所述的屏蔽层（5）材料为导磁材料。4.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液回收器：其特征在于，所述的磁流变抛光液回收器安装在磁流变抛光轮（6）正上方、斜前方或者斜后方中的一个位置。2CN106272086A说明书1/4页一种磁流变抛光液回收器技术领域[0001]本发明属于光学元件超精密加工领域，具体涉及一种磁流变抛光液回收器。背景技术[0002]磁流变抛光是一种重要的光学元件超精密加工手段，具有加工效率高、亚表面损伤小的优势。中国专利文献库公开了国防科技大学的发明专利CN101323097A一种完整的磁流变抛光机床设备及抛光轮方案，该磁流变抛光机床可用于加工超大口径的光学元件；国防科技大学的后续发明专利CN101249637A对磁流变抛光机床的抛光液循环系统进行了改进，抛光液循环系统采用了一种内部中空的回收装置，在回收装置的装置座上布置有环形的永磁体，该回收装置与鼓形抛光轮之间存在间隙，难以完整回收抛光液；同时，永磁体形成的磁场会硬化磁流变抛光液，从而加剧对磁流变抛光轮的磨损。[0003]目前亟需改进磁流变抛光液回收器，降低对磁流变抛光轮的磨损。发明内容[0004]本发明所要解决技术问题是提供一种磁流变抛光液回收器。[0005]本发明的磁流变抛光液回收器，其特点是：包括回收罩、导液管、永磁铁和屏蔽层，所述的回收罩为圆柱形，圆柱形的顶部为上端面，圆柱形的底部为下端面，下端面开有单面腔体和引流口；所述的导液管为中空的导管，导液管垂直贯穿回收罩的上端面，与下端面之间留有缝隙；所述的回收罩的下端面为与鼓型的磁流变抛光轮相贴合的曲面，曲面的形状为与磁流变抛光轮鼓型半径R1和磁流变抛光轮回转半径R2相贯的曲面；所述的回收罩的下端面开有与回收罩同轴的圆弧形凹槽Ⅰ，圆弧形凹槽Ⅰ中安装有形状匹配的屏蔽层，屏蔽层中开有与回收罩同轴的圆弧形凹槽Ⅱ，圆弧形凹槽Ⅱ中放置有形状匹配的永磁铁，永磁铁和屏蔽层的表面与磁流变抛光轮相贴合，永磁铁的充磁方向与回收罩的轴线平行；所述的单面腔体的开口端迎着使用后的附着在磁流