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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114734305A(43)申请公布日2022.07.12(21)申请号202210443383.4(22)申请日2022.04.25(71)申请人厦门大学地址361000福建省厦门市思明区思明南路422号(72)发明人彭云峰何佳宽(74)专利代理机构厦门福贝知识产权代理事务所(普通合伙)35235专利代理师陈远洋(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)B24B57/00(2006.01)B24B41/00(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图4页(54)发明名称一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器(57)摘要本发明提供一种一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,包括:回收罩、导液管和气压装置,回收罩的下端设有相邻的第一U形槽和第二U形槽,第二U形槽与所述第一U形槽相邻的内壁上设有气压孔;所述气压装置的气流通道与所述第二U形槽和所述气压孔依次连通,以将压缩空气吹向磁体层的表面。气压孔暴露于磁体层的表面上,吹散附着在磁体层表面的磁流变抛光液,使其向回收腔的引流孔处汇集并流入导液管,一方面避免磁流变抛光液因不稳定因素流出回收罩,提高回收率,另一方面避免附着在磁体层表面的磁流变抛光液因为磁场作用产生缎带硬化,对抛光轮造成磨损,减少了影响工件加工精度的因素同时提高了磁流变抛光液的回收效率和稳定性。CN114734305ACN114734305A权利要求书1/1页1.一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,包括:回收罩、导液管和气压装置,所述导液管和所述气压装置设置在所述回收罩的上端并与所述回收罩固定连接,所述回收罩与抛光轮相对设置,以回收磁流变抛光液;所述回收罩的下端设有相邻的第一U形槽和第二U形槽,所述第一U形槽的内环沿圆周方向形成回收腔,所述回收腔的内腔顶壁上开设有与所述导液管连通的引流孔;所述第一U形槽内嵌设磁体层,所述第二U形槽与所述第一U形槽相邻的内壁上设有气压孔,所述气压孔暴露于所述磁体层之外;所述气压装置的气流通道与所述第二U形槽和所述气压孔依次连通,以将压缩空气吹向所述磁体层的表面。2.根据权利要求1所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述磁体层包括永磁铁和纯铁,所述纯铁设置于所述第一U形槽的最外端。3.根据权利要求2所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述磁体层还包括调整垫片,所述调整垫片设置于所述第一U形槽的最内端和/或所述永磁铁与所述纯铁之间。4.根据权利要求3所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述调整垫片是2片且两片所述调整垫片的厚度之和是固定值。5.根据权利要求2所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述磁体层还包括屏蔽层,所述屏蔽层包裹在所述永磁铁外围,所述屏蔽层的截面为U形结构,其开口部朝向抛光轮。6.根据权利要求1所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述气压孔设有多个并间隔排列。7.根据权利要求6所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述气压孔沿所述第二U形槽与所述第一U形槽相邻的内壁环绕260°。8.根据权利要求1所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述第二U形槽的上端设有密封端盖,所述密封端盖固定设置在所述第二U形槽的上部。9.根据权利要求1所述的一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器,其特征在于,所述回收罩的下端面是与所述抛光轮相贴合的曲面。2CN114734305A说明书1/5页一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器技术领域[0001]本发明涉及光学元件超精密加工领域,特别涉及一种气磁密封结合的磁流变抛光液回收器。背景技术[0002]磁流变抛光是一种具有亚表面损伤小和去除稳定性好的抛光的技术,目前该技术发展已经较为成熟并且实现了商业化,在精密光学抛光加工技术领域中有着重要的地位。磁流变抛光技术的基本原理是利用磁流变液在磁场中的流变性进行抛光。当磁流变液流经高强度的梯度磁场时,会变硬,粘度变大,成为具有粘塑性的bingham介质,并且形成缎带突起。当这种介质流经工件表面时会产生很大的剪切力,从而达到材料去除的目的;离开磁场后,又变成流动液体。然而,针对现已有的回收离开磁场区域的磁流变液技术仍存在许多不足,例如:存在回收不完全、磁流变抛光轮倾斜侧漏以及对磁流变抛光轮的磨损缺点。[0003]中国文献专利库公开了国防科技大学的发明专利CN101249637A设计一种内部中空回收装置,该装置回收头边缘嵌入环形永磁铁,相比用铜片接触抛光轮阻挡磁流变抛光液流动回收避免了因摩擦、划伤抛光轮表面而影响抛光轮表面质量和圆度。然而由于该装置与鼓形抛光轮存在较大的间隙,导致无法完全回收抛光液;