一种磁流变抛光液离线匀化装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107695801A(43)申请公布日2018.02.16(21)申请号201711283993.8(22)申请日2017.12.07(71)申请人中国工程物理研究院机械制造工艺研究所地址621999四川省绵阳市919信箱407分箱(72)发明人罗清敬兴久殷俊郑永成陈华徐健黄文张连新吉方何建国刘坤魏齐龙(74)专利代理机构中国工程物理研究院专利中心51210代理人翟长明韩志英(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图4页(54)发明名称一种磁流变抛光液离线匀化装置(57)摘要本发明公开了一种磁流变抛光液离线匀化装置，包括防护罩、支撑板，以及安装在支撑板上的电机、电机控制器、电机控制器挂架、传送带Ⅰ和双主传动匀化组。双主传动匀化组形成方形空间并托起混合瓶。该离线匀化装置可以拓展为多组双主传动匀化组。使用时，将盛有磁流变抛光液的混合瓶放置于双主传动匀化组上，调节电机速度，运行电机，电机转动依次带动传送带Ⅰ、双主传动匀化组。辊轮通过橡胶管与混合瓶的静摩擦双主传动带动混合瓶回转，从而均匀匀化混合瓶内的磁流变抛光液。该离线匀化装置具有主动传动功能，摩擦力大、传送力矩大，辊轮不空转、混合瓶不打滑。该离线匀化装置还可用于磁流变抛光液的离线匀化以及其它抛光液的匀化。CN107695801ACN107695801A权利要求书1/1页1.一种磁流变抛光液离线匀化装置，其特征在于：所述的离线匀化装置包括防护罩（2）、支撑板（7）以及安装在支撑板（7）上的支脚（3）、电机（4）、电机控制器挂架（5）、电机控制器（6）、双主传动匀化组（9）以及安装在电机（4）和双主传动匀化组（9）之间的传送带Ⅰ（8）；所述的防护罩（2）为方形中空结构，包覆在支撑板（7）的外周，露出混合瓶（1）、辊轮Ⅰ（10）、辊轮Ⅱ（15）、左挡块（11）、右挡块（14）、前挡块（16）、后挡块（13）；所述的支撑板（7）为方形平板，支脚（3）安装在支撑板（7）下方的四个角上，支撑离线匀化装置；所述的支撑板（7）下方安装有电机（4）、电机控制器挂架（5）、电机控制器（6），电机（4）和电机控制器挂架（5）固定在支撑板（7）下表面上，电机控制器（6）固定在电机控制器挂架（5）上，电机控制器（6）控制电机（4）运动，电机控制器（6）操作面板位于离线匀化装置正面以方便人员操作；所述的支撑板（7）上方安装有双主传动匀化组（9），双主传动匀化组（9）包括辊轮Ⅰ（10）、辊轮Ⅱ（12）、传送带Ⅱ（15）、前挡块（16）、后挡块（13）、左挡块（11）、右挡块（14），所述的前挡块（16）、后挡块（13）、左挡块（11）、右挡块（14）安装在支撑板（7）上表面的四边，形成一个限制混合瓶（1）移动的方形空间，所述的辊轮Ⅰ（10）、辊轮Ⅱ（12）平行放置在方形空间中并托起混合瓶（1）；所述的混合瓶（1）的轴线与辊轮Ⅰ（10）、辊轮Ⅱ（12）的轴线平行，辊轮Ⅰ（10）、辊轮Ⅱ（12）通过传送带Ⅱ（15）连接，电机（4）转动依次带动传送带Ⅰ（8）、辊轮Ⅰ（10）、传送带Ⅱ（15）、辊轮Ⅱ（12）转动，混合瓶（1）在辊轮Ⅰ（10）、辊轮Ⅱ（12）之间回转。2.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液离线匀化装置，其特征在于，所述的双主传动匀化组（9）包括多组双主传动匀化组（9），每组双主传动匀化组（9）均平行安装在支撑板（7）的上表面，各组之间保留间距并通过传送带（19）依次连接并传递。3.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液离线匀化装置，其特征在于：所述的辊轮轴（18）表面套装橡胶管（17），橡胶管（17）均匀分布在辊轮轴（18）上，橡胶管（17）与辊轮轴（18）过盈配合。4.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液离线匀化装置，其特征在于：所述的电机（4）的调速范围为200~800rpm。5.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光液离线匀化装置，其特征在于：所述的电机控制器（6）上安装有电机调速手柄，通过电机调速手柄控制电机转速；所述的电机控制器（6）上还安装有显示屏，通过显示屏显示电机转速。2CN107695801A说明书1/4页一种磁流变抛光液离线匀化装置技术领域[0001]本发明属于光学元件超精密加工领域，具体涉及一种磁流变抛光液离线匀化装置。背景技术[0002]光技术被誉为光学制造界的革命性技术，它利用磁流变抛光液的可控流变性实现对工件材料的精确微量确定性去除，能高效率获得数十纳米以下高精度型面、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷，很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的加工要求。[0003]目前在磁流变抛光液的配置过程中，需要对磁流变抛光液的各种组份进行混合，要求各组份混合均匀，不得有颗粒