

一种提高硅片切割厚度均匀性的方法.pdf
新月****姐a
在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便
相关资料
一种提高硅片切割厚度均匀性的方法.pdf
本发明公开了一种提高硅片切割厚度均匀性的方法,包括:(1)导轮涂覆和开槽:导轮涂覆时,在导轮涂层反涂树脂胶中添加碳化硅粉,并开V型槽;(2)粘棒:用AB胶将晶托、树脂板和硅棒粘接在一起;(3)切割:将粘好的硅棒放到线切机中进行切割,切割前采用斜线网方式布网;切割过程中,将添加了硅粉分散剂的水溶液引流至切割面;(4)切割完成,脱胶清洗硅片。本发明简单有效,可以明显提高硅片切割厚度的均匀性。
一种改善硅片厚度均匀性的单片石墨盘.pdf
本实用新型专利提供了一种改善硅片厚度均匀性的单片石墨盘,该单片石墨盘的圆形凹陷区域设置具有坡度的斜面,所述斜面表面加工若干条状凹槽,所述凹槽用于硅片装载过程中石墨盘与硅片下表面空间内的气体流动,且不影响硅片外延后的背面质量。故本设计方案可将硅片与石墨盘的接触方式由面接触改为线接触,有效地避免硅片装载时因石墨盘与硅片之间的气体流动导致的硅片相对石墨盘出现轻微滑动的现象,进而达到提升硅片厚度均匀性的目的。
一种用于提高微注塑模具厚度均匀性的电铸装置及方法.pdf
本发明提供了一种用于提高微注塑模具厚度均匀性的电铸装置及方法,装置包括电铸模块、电铸液温度控制模块、阴极旋转控制模块;电铸模块包括电铸槽和阴极夹具,电铸槽内装有电铸液、以及与阴极对应的阳极,阴极夹具设置侧边封液槽,侧边封液槽用于抑制铸层阴极的边缘效应,电铸槽内设置冲液口,冲液口对准阴极并使电铸液冲击阴极。本发明中在近阴极绝缘屏蔽挡板及具有侧边封液的夹具的共同作用下,可以实现铸层高厚度均匀性沉积,在斜冲液与阴极旋转的作用下提高铸层表面液体扰动。采用本发明提供的装置及方法可以获得复制精度高、微结构无孔隙缺陷、
提高微电铸层厚度均匀性的方法和机理研究.docx
提高微电铸层厚度均匀性的方法和机理研究提高微电铸层厚度均匀性的方法和机理研究摘要:微电铸是一种常用的金属制备方法,可以在细小的模具中得到高精度和高质量的金属零件。然而,微电铸层的厚度均匀性对于零件的质量和功能至关重要。本文综述了影响微电铸层厚度均匀性的因素,并提出了一些提高厚度均匀性的方法,包括改进电铸工艺参数、优化模具设计以及引入外部场等。最后,对微电铸层厚度均匀性的机理进行了探讨,包括液相扩散、表面张力效应以及液流动力学等。关键词:微电铸;层厚度均匀性;工艺参数;模具设计;外部场;机理研究1.引言微电
一种提高空腔工件渗碳层厚度均匀性的装置及方法.pdf
本发明涉及一种提高空腔工件渗碳层厚度均匀性的装置及方法,属于钽及钽合金化学热处理技术领域,包括支撑系统、隔热系统、气源系统和抽气系统;隔热系统分别与气源系统和抽气系统相连接;支撑系统包括真空渗碳炉、支撑架和工作台,真空渗碳炉和工作台之间通过隔热系统相连接;隔热系统为隔热层;气源系统和抽气系统均与隔热层相连接;支撑架放置在工作台上,工作台放置在导轨上。本发明的装置及方法提高了复杂空腔结构工件以及带盲孔工件不同部位渗碳层均匀性,特别是改善工件内腔由于气体流动不充分而造成渗层较层薄的现象,提高了渗碳后工件的使用