石英晶片腐蚀装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106746699A(43)申请公布日2017.05.31(21)申请号201611232529.1(22)申请日2016.12.28(71)申请人重庆晶宇光电科技有限公司地址402160重庆市永川区星光大道999号1幢(72)发明人侯明永(74)专利代理机构重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)50217代理人陈家辉(51)Int.Cl.C03C15/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称石英晶片腐蚀装置(57)摘要本发明申请涉及晶片加工领域，公开了一种石英晶片腐蚀装置，包括凸轮和与凸轮同轴连接的转轴，凸轮内部在其大端一侧设有第一空腔和第二空腔，第一空腔内装有腐蚀液，第二空腔内装有清洁液；所述第一空腔的出口处设置有第一挡片，第二空腔的出口处第二挡片述凸轮的侧壁分别上设置两条凹槽，凹槽内设置有滑臂，所述滑臂的侧壁与挡片的侧壁固定连接，滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接，还包括第一凸块、第二凸块，第一凸块和第二凸块分别位于所述凸轮的两侧，所述凸轮的下方设置有传送装置，所述转轴下端连接有第一齿轮，所述第一齿轮连接有动力装置。本发明既能控制晶片的腐蚀程度，还能边腐蚀边清洗，省时省力。CN106746699ACN106746699A权利要求书1/1页1.一种石英晶片腐蚀装置，包括凸轮机构，凸轮机构包括凸轮和与凸轮下端面偏心连接的转轴，其特征在于，所述凸轮内部靠近大端一侧设置有第一空腔和第二空腔，所述第一空腔和第二空腔在垂直方向上从上至下依次排列，所述第一空腔内装有腐蚀液，所述第二空腔内装有清洁液；所述第一空腔的出口处设置有遮挡第一空腔的第一挡片，第二空腔的出口处设置有遮挡第二空腔的第二挡片，所述凸轮的侧壁上分别设置可有供所述第一挡片和第二挡片滑动的两条凹槽，所述第一挡片和第二挡片与相应的凹槽之间设置有滑臂，所述滑臂的侧壁与所述挡片的侧壁固定连接，所述滑臂嵌入所述凹槽，所述滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接，在所述凸轮的运动轨迹上设置有可与所述第一挡片相抵的第一凸块以及可与所述第二挡片相抵的第二凸块，所述第一凸块和第二凸块分别位于所述凸轮的两侧，所述凸轮的下方设置有运送晶片的传送装置，所述转轴下端连接有第一齿轮，所述第一齿轮连接有动力装置。2.根据权利要求1所述的石英晶片腐蚀装置，其特征在于，所述动力装置为电机，所述电机的输出轴同轴连接有传动齿轮。3.根据权利要求2所述的石英晶片腐蚀装置，其特征在于，所述第一齿轮啮合有第二齿轮。4.根据权利要求3所述的石英晶片腐蚀装置，其特征在于，所述传送装置为传送台，所述传送台的侧面设置有齿条，所述齿条与所述第二齿轮啮合。5.根据权利要求4所述的石英晶片腐蚀装置，其特征在于，所述第一齿轮与所述传动齿轮啮合。6.根据权利要求1所述的石英晶片腐蚀装置，其特征在于，所述第一齿轮与所述凸轮之间设置有一圆盘，所述圆盘与所述转轴固定连接，所述圆盘上设置有与第一空腔和第二空腔出口相对的通孔。7.根据权利要求1所述的石英晶片腐蚀装置，其特征在于，所述第一空腔和第二空腔的腔体横截面呈弧形，所述腔体的弯曲方向与凸轮的旋转方向一致。2CN106746699A说明书1/3页石英晶片腐蚀装置技术领域[0001]本发明涉及晶片加工领域，具体涉及一种石英晶片腐蚀装置。背景技术[0002]石英晶片腐蚀装置是用于对晶片进行腐蚀的常用设备，使用时，将晶片盛放在晶片篮中，然后放在腐蚀液池中，摇动晶片篮对晶片进行腐蚀，腐蚀完后再把晶片篮放在清洗池中摇动进行清洗，这种装置将晶片腐蚀完之后，还需转移晶片到清洗设备中再进行清洗，非常费时费力；并且采用这种浸泡的方式进行腐蚀，通常会导致腐蚀过度；为了克服上述问题，现有技术中也存在采用喷洒腐蚀的方式进行晶片腐蚀的装置，但是喷洒腐蚀通常又会导致腐蚀不均匀、有些位置不会被腐蚀的情况发生。[0003]为了解决上述问题，急需一种石英晶片腐蚀装置，既能控制晶片的腐蚀程度，还能边腐蚀边清洗，不需要在腐蚀后转移晶片。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种可均匀腐蚀的石英晶片腐蚀装置，能边腐蚀边清洗，不需要在腐蚀后转移晶片的位置，省时省力。[0005]为达到上述目的，本发明的基础方案如下：石英晶片腐蚀装置，包括凸轮机构，凸轮机构包括凸轮和与凸轮下端面偏心连接的转轴，所述凸轮内部靠近大端一侧设置有第一空腔和第二空腔，所述第一空腔和第二空腔在垂直方向上从上至下依次排列，所述第一空腔内装有腐蚀液，所述第二空腔内装有清洁液；所述第一空腔的出口处设置有遮挡第一空腔的第一挡片，第二空腔的出口处设置有遮挡第二空腔的第二挡片，所述凸轮的侧壁上分别设置可有供所述第一挡片和第二挡片滑动的两条凹槽，所述第一挡片和