石英晶片抛光装置.pdf
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石英晶片抛光装置.pdf
本实用新型公开了石英晶片抛光装置,包括底板,其特征在于:所述底板的上侧固定拱形支架,所述拱形支架的上侧中心轴承连接锥齿轮一的中心轴,所述锥齿轮一的下侧中心固定连接套筒,所述锥齿轮一啮合锥齿轮二,所述锥齿轮二轴承连接L形板的立板,所述L形板的立板固定所述拱形支架的上侧,所述L形板的横板轴承连接锥齿轮三的中心轴,所述锥齿轮三的中心下端固定转动柱的上端。本实用新型涉及石英晶片打磨抛光设备领域,具体涉及石英晶片抛光装置。本实用新型要解决的技术问题是提供石英晶片抛光装置,方便对石英晶片进行打磨抛光。
石英晶片抛光工艺.pdf
本发明提供一种石英晶片抛光工艺,其步骤包括:提供经倒角处理后的方形石英晶片并将其置于游星轮的圆形游轮孔内;分别在研磨机上研盘上和研磨机下研盘上粘结抛光垫并采用金刚石修整轮对所述抛光垫进行研磨处理;然后固定所述上研盘,采用所述下研盘旋转对所述游星轮连同置于该游星轮中的所述石英晶片进行抛光处理,从而制得方形石英晶片抛光体。该工艺直接对方形石英晶片进行抛光,省掉了晶片改圆和圆片改回方片的两道工序,大大降低了原材料消耗及生产成本、缩短了生产流程,并且有本工艺制得的石英晶片抛光体性能完全能够达到采用圆形晶片进行抛光
石英晶片腐蚀装置.pdf
本发明申请涉及晶片加工领域,公开了一种石英晶片腐蚀装置,包括凸轮和与凸轮同轴连接的转轴,凸轮内部在其大端一侧设有第一空腔和第二空腔,第一空腔内装有腐蚀液,第二空腔内装有清洁液;所述第一空腔的出口处设置有第一挡片,第二空腔的出口处第二挡片述凸轮的侧壁分别上设置两条凹槽,凹槽内设置有滑臂,所述滑臂的侧壁与挡片的侧壁固定连接,滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接,还包括第一凸块、第二凸块,第一凸块和第二凸块分别位于所述凸轮的两侧,所述凸轮的下方设置有传送装置,所述转轴下端连接有第一齿轮,所述第一齿轮连接有动
石英晶片剪切增稠抛光优化实验.docx
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