溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107115689A(43)申请公布日2017.09.01(21)申请号201611221825.1(22)申请日2016.12.26(30)优先权数据2016-0335082016.02.24JP(71)申请人松下电器产业株式会社地址日本大阪府(72)发明人永井耕一南尾匡纪神田敏朗高野泰行河田正弘(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人刘建(51)Int.Cl.B01D5/00(2006.01)B01D53/00(2006.01)B01D53/32(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图8页(54)发明名称溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统(57)摘要本发明提供能够容易地回收从排气气氛中除去的溶剂而能够容易地进行排气路径的维护的溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统。通过使收容在外壳(62)的收容空间(63)中的叶轮(71)旋转，从而将包含气化了的溶剂(23)的气体从所述外壳的引入口(64)向所述收容空间引入，利用回收面(83)对所述气化了的溶剂进行冷却而使该溶剂液化，从而从所述气体中分离所述溶剂，该回收面(83)被冷却成表面温度为比所述气体的温度低的低温。CN107115689ACN107115689A权利要求书1/2页1.一种溶剂分离方法，从包含气化了的溶剂的气体中除去所述溶剂，其中，所述溶剂分离方法包括：通过使收容在外壳的收容空间中的叶轮旋转，将包含所述气化了的溶剂的气体从所述外壳的引入口向所述收容空间引入的工序；以及利用回收面冷却引入到所述收容空间中的所述气化了的溶剂而使该溶剂液化，从而从所述气体分离所述溶剂的工序，所述回收面被冷却成表面温度成为比所述气体的温度低的低温。2.根据权利要求1所述的溶剂分离方法，其中，在将包含所述气化了的溶剂的气体向所述收容空间引入的工序之前，包括对于包含所述气化了的溶剂的气体而使所述气化了的溶剂凝聚的工序。3.根据权利要求1所述的溶剂分离方法，其中，接着从所述气体分离所述溶剂的工序，包括对分离了所述溶剂的气体施加电场而将残留于所述气体中的气化了的溶剂分离的工序。4.根据权利要求2所述的溶剂分离方法，其中，接着从所述气体分离所述溶剂的工序，包括对分离了所述溶剂的气体施加电场而将残留于所述气体中的气化了的溶剂分离的工序。5.一种溶剂分离装置，其中，所述溶剂分离装置具备：叶轮，其绕旋转轴排列有多个叶片，且能够以所述旋转轴为中心旋转；外壳，其具有收容空间、引入口以及排出口，所述收容空间收容所述叶轮，所述引入口向所述收容空间引入气体，所述排出口从所述收容空间排出所述气体；以及回收部，其具有面向所述收容空间的回收面，且被冷却成所述回收面的表面温度成为比从所述引入口引入的气体的温度低的低温，通过所述叶轮旋转，从所述引入口向所述收容空间引入包含气化了的溶剂的气体，利用所述回收面冷却所述气化了的溶剂而使该溶剂液化，由此从所述气体分离所述溶剂。6.根据权利要求5所述的溶剂分离装置，其中，将所述外壳的内表面附近的气体的流速与从所述叶轮送出的气体的流速几乎相等的区域作为高速区域，将所述外壳的内表面附近的气体的流速低于从所述叶轮送出的气体的流速的区域作为低速区域，所述回收面配置在所述低速区域中。7.根据权利要求5所述的溶剂分离装置，其中，所述引入口配置在所述外壳的与所述旋转轴交叉的面上，所述排出口朝向与所述旋转轴交叉的方向配置，所述回收面配置在所述外壳的内表面中的与配置有所述引入口的面对置的面。8.根据权利要求5所述的溶剂分离装置，其中，将在所述外壳上配置有隔热件的区域作为隔热区域，将未配置隔热件的区域作为散热区域，所述回收面配置在所述散热区域。9.一种溶剂分离系统，其中，所述溶剂分离系统包括：权利要求5所述的溶剂分离装置，其配置在使包含气化了的溶剂的气体产生的排气产2CN107115689A权利要求书2/2页生装置的下游；以及凝聚装置，其配置在所述排气产生装置与所述溶剂分离装置之间，使所述气化了的溶剂凝聚。10.根据权利要求9所述的溶剂分离系统，其中，在所述溶剂分离装置的下游具备集尘部，该集尘部进一步对从所述溶剂分离装置排出的气体施加电场，将残留于所述气体中的气化了的溶剂分离。3CN107115689A说明书1/10页溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统技术领域[0001]本发明涉及从包含气化了的溶剂的气体中除去溶剂的溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统。背景技术[0002]近年来，在家电等各种工业产品的组装制造工序、或者成为这些产品的结构部件的电子部件、电池或基板等的设备制造工序中，在涂敷了具有各种功能的膏状的材料后，通过热处理装置进行加热处理。热处理装置例如是干燥炉、烧制炉