用于晶片均匀性的轮廓凹坑和混合基座.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107481966A(43)申请公布日2017.12.15(21)申请号201710423175.7(22)申请日2017.06.07(30)优先权数据62/347,0622016.06.07US(71)申请人应用材料公司地址美国加利福尼亚州(72)发明人K·甘加基德加K·贝拉J·约德伏斯基(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100代理人侯颖媖(51)Int.Cl.H01L21/687(2006.01)权利要求书2页说明书11页附图16页(54)发明名称用于晶片均匀性的轮廓凹坑和混合基座(57)摘要本发明描述了基座组件，所述基座组件包括：基座基部；以及多个饼形蒙皮，所述多个饼形蒙皮在基座基部上。饼形锚件可以定位在基座基部的中心，以便在处理期间将所述饼形蒙皮保持于适当位置处。CN107481966ACN107481966A权利要求书1/2页1.一种基座组件，所述基座组件包括：基座基部；多个饼形蒙皮，在所述基座基部上；以及饼形锚件，在所述基座基部的中心，所述饼形锚件被配置为与所述饼形蒙皮协作地相互作用以将所述饼形蒙皮保持于适当位置。2.如权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述基座基部包括多个凹部。3.如权利要求2所述的基座组件，其还包括在所述基座基部的所述凹部内的多个凹坑盖件。4.如权利要求3所述的基座组件，其特征在于，所述凹坑盖件具有与所述凹部的深度基本上相同的厚度。5.如权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述饼形锚件包括至少一个突起，并且所述饼形蒙皮具有至少一个凹部，所述至少一个凹部与所述饼形蒙皮的内周边缘相邻并且大小适于与所述饼形锚件上的所述至少一个突起协作地相互作用。6.如权利要求5所述的基座组件，其特征在于，所述基座基部包括与外周边缘相邻的至少一个突起，并且所述饼形蒙皮具有至少一个凹部，所述至少一个凹部与所述饼形蒙皮的外周边缘相邻并且大小适于与所述基座基部上的所述至少一个突起协作地相互作用。7.如权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述饼形蒙皮包括与内周边缘相邻的突起和与外周边缘相邻的突起。8.如权利要求7所述的基座组件，其特征在于，所述基座基部具有与外周边缘相邻的凹部，并且所述锚件包括被定位为而且大小适于与所述饼形蒙皮上的所述突起协作地相互作用的凹部。9.如权利要求1所述的基座组件，其还包括夹板，所述夹板位于所述锚件和所述蒙皮的内周边缘上方。10.如权利要求3所述的基座组件，其特征在于，所述凹坑盖件包括多个细长孔洞，以允许升降杆从中穿过。11.如权利要求10所述的基座组件，其特征在于，所述细长孔洞在沿所述凹坑盖件的扩展轴线的方向上伸长。12.如权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述饼形蒙皮还包括凹部。13.如权利要求12所述的基座组件，其特征在于，所述凹部具有与将定位在所述凹部内的基板基本上相同的深度。14.如权利要求12所述的基座组件，其特征在于，所述凹部还包括在所述凹部的外周边缘处的凸缘。15.如权利要求14所述的基座组件，其还包括定位在所述凹部的所述凸缘中的圈环。16.如权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述基座基部由包含石墨的材料制成。17.如权利要求16所述的基座组件，其特征在于，所述基座基部具有范围为约20mm至约40mm的厚度。18.如权利要求1所述的基座组件，其特征在于，所述饼形蒙皮由包含陶瓷的材料制成。19.一种基座组件，所述基座组件包括：基座基部；2CN107481966A权利要求书2/2页多个岛部，延伸到所述基座基部的上方，所述岛部大小适于在处理期间支撑基板；以及多个蒙皮，被定位为环绕所述多个岛部，所述多个蒙皮中的每者均由陶瓷材料制成。20.一种基座组件，所述基座组件包括：基座基部，包括多个凹部，在所述凹部内具有凹坑盖件，所述凹坑盖件具有与所述凹部的所述深度基本上相同的厚度；多个饼形蒙皮，在所述基座基部上，所述饼形蒙皮中的每者具有与所述饼形蒙皮的内周边缘相邻的至少一个凹部或突起；饼形锚件，在所述基座基部的中心，所述饼形锚件被配置为与所述饼形蒙皮协作地相互作用以将所述饼形蒙皮保持于适当位置，所述饼形锚件包括至少一个突起或至少一个凹部，所述至少一个突起大小适于与所述饼形蒙皮上的所述至少一个凹部协作地相互作用，所述至少一个凹部大小适于与所述饼形蒙皮上的所述至少一个突起协作地相互作用；以及夹板，位于所述锚件和所述蒙皮的内周边缘上方。3CN107481966A说明书1/11页用于晶片均匀性的轮廓凹坑和混合基座技术领域[0001]本公开大体上涉及用于在基座中支撑晶片的凹坑。具体来说，本公开的实施例涉及用于成批处理腔室的具有晶片凹坑的基座组件。背景技术[0002]在成批处理腔室中，膜厚度、折射率和湿蚀刻