一种镀膜机液氮旋转冷却装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107815660A(43)申请公布日2018.03.20(21)申请号201711265509.9(22)申请日2017.12.05(71)申请人北京帕托真空技术有限公司地址100096北京市海淀区西三旗悦秀路76号C座2层C219号(72)发明人郭书周(74)专利代理机构北京高文律师事务所11359代理人徐江华(51)Int.Cl.C23C14/50(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称一种镀膜机液氮旋转冷却装置(57)摘要本发明公开了一种镀膜机液氮旋转冷却装置，从上到下依次包括液氮旋转装置、支撑螺杆、真空密封装置、空心管、基片台，液氮旋转装置的外壳和真空密封装置的外壳通过支撑螺杆相连；在液氮旋转装置和真空密封装置的中间轴之间设置有连接体、大齿轮，大齿轮位于连接体下部并和连接体螺栓连接，真空密封装置外壳上固定有电机座，所述电机座上设置有电机，通过小齿轮、皮带连接到大齿轮；大齿轮与穿过真空密封装置的空心管焊接，空心管中设置有冷却管，冷却管上部与液氮旋转装置相连接，下部与基片台相连。本发明通过电机驱动中间轴做旋转运动，实现基片台旋转，使基片台下表面镀膜均匀，提高冷却速度，使得基片台可以高效快速均匀镀膜。CN107815660ACN107815660A权利要求书1/1页1.一种镀膜机液氮旋转冷却装置，其特征在于：从上到下依次包括液氮旋转装置、支撑螺杆、真空密封装置、空心管、基片台，液氮旋转装置的外壳和真空密封装置的外壳通过支撑螺杆相连；在液氮旋转装置和真空密封装置的中间轴之间设置有连接体、大齿轮，大齿轮位于连接体下部并和连接体螺栓连接，真空密封装置外壳上固定有电机座，所述电机座上设置有电机，所述电机连接有小齿轮，小齿轮通过皮带连接到大齿轮；大齿轮与穿过真空密封装置的空心管焊接，空心管中设置有冷却管，冷却管上部与液氮旋转装置相连接，下部与基片台相连。2.根据权利要求1所述的镀膜机液氮旋转冷却装置，其特征在于：空心管外侧的上部设置有波纹管，波纹管位于真空密封装置下面，二者螺栓相连。3.根据权利要求1所述的镀膜机液氮旋转冷却装置，其特征在于：液氮旋转装置和真空密封装置的中间轴使用螺栓分别与连接体相连。4.根据权利要求1所述的镀膜机液氮旋转冷却装置，其特征在于：所述冷却管包括进氮口和出氮口，所述冷却管在基片台螺旋排列，形成螺旋冷却面。5.根据权利要求4所述的镀膜机液氮旋转冷却装置，其特征在于：所述液氮旋转装置包括与进氮口和出氮口分别对应的液氮入口和液氮出口。6.根据权利要求1所述的镀膜机液氮旋转冷却装置，其特征在于：大齿轮为高真空密封齿轮，下面为真空密封装置，大齿轮与真空密封装置的中间轴螺栓连接。2CN107815660A说明书1/3页一种镀膜机液氮旋转冷却装置技术领域[0001]本发明涉及一种冷却装置，尤其涉及一种镀膜机液氮旋转冷却装置。背景技术[0002]在制作镀膜样片时，经常对基片进行冷却处理，传镀膜统冷却方法一般采用冷却水冷却或乙醇介质冷却法对静止的基片台冷却，但是这两种方式均冷却速度慢，不利于镀膜快速冷却成型，另外，静止的基片台极易造成镀膜不均匀，导致基片下面膜材蒸汽分布不均匀，靠近蒸发源的基片位置膜厚，远离蒸发源的基片位置膜薄，鉴于上述缺陷，实有必要设计一种镀膜机液氮旋转冷却装置。发明内容[0003]本发明提供一种镀膜机液氮旋转冷却装置，来解决镀膜材料镀膜不均匀和不能极速冷却导致镀膜效率降低，镀膜品质不良的问题。其技术方案如下所述：[0004]一种镀膜机液氮旋转冷却装置，从上到下依次包括液氮旋转装置、支撑螺杆、真空密封装置、空心管、基片台，液氮旋转装置的外壳和真空密封装置的外壳通过支撑螺杆相连；在液氮旋转装置和真空密封装置的中间轴之间设置有连接体、大齿轮，大齿轮位于连接体下部并和连接体螺栓连接，真空密封装置外壳上固定有电机座，所述电机座上设置有电机，所述电机连接有小齿轮，小齿轮通过皮带连接到大齿轮；大齿轮与穿过真空密封装置的空心管焊接，空心管中设置有冷却管，冷却管上部与液氮旋转装置相连接，下部与基片台相连。[0005]空心管外侧的上部设置有波纹管，波纹管位于真空密封装置下面，二者螺栓相连。[0006]液氮旋转装置和真空密封装置的中间轴使用螺栓分别与连接体相连。[0007]所述冷却管包括进氮口和出氮口，所述冷却管在基片台螺旋排列，形成螺旋冷却面。[0008]所述液氮旋转装置包括与进氮口和出氮口分别对应的液氮入口和液氮出口。[0009]大齿轮为高真空密封齿轮，下面为真空密封装置，大齿轮与真空密封装置的中间轴螺栓连接。[0010]与现有技术相比，这种旋转冷却装置，通过电机驱动中间轴做旋转运动