一种管体内壁的镀膜装置及其镀膜方法.pdf
春兰****89
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一种管体内壁的镀膜装置及其镀膜方法.pdf
本发明公开了一种管体内壁的镀膜装置,包括炉体,炉体为双层真空炉并作为阳极,炉壁用循环水冷却;炉体的底部内侧设置炉底托盘,炉底托盘与杆状阳极、工件承重托盘相连,工件承重托盘上设置中空靶材、辅助工装,中空靶材内穿过杆状阳极,辅助工装用于保温及支撑中空靶材,中空靶材的外侧、辅助工装的内侧设置管状工件;炉体内还设置工件阴极、靶材阴极,工件阴极与工件承重托盘相连,工件承重托盘与管状工件导电相连,靶材阴极与中空靶材通过连接导杆相连;工件阴极和电源二、炉体构成回路,产生辉光放电;靶材阴极和电源一、炉体构成回路,产生辉光
动态镀膜装置及其动态镀膜方法.pdf
本发明涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法,动态镀膜装置包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔,过渡腔包括至少三个检测元件,相邻两个检测元件限定出一过渡区间,过渡区间内设有一驱动机构,驱动机构具有工艺速度、传动速度及极限速度;控制模块与检测元件、驱动机构通信连接,用于在靠近镀膜腔的检测元件检测到前一基片远离镀膜腔的尾部离开时控制驱动机构加速至传动速度,且靠近镀膜腔的检测元件检测到后一基片靠近镀膜腔的头部开始离开时控制驱动机构降速至工艺速度;多次追赶的加速度和传动速度较小,降低基片碎片率,
一种镀膜装置及镀膜方法.pdf
本发明涉及镀膜技术领域,尤其涉及一种适用于显示装置的柔性基板镀膜装置及镀膜方法,该镀膜装置包括滚轮,设置于真空腔室中,所述柔性基板缠绕于所述滚轮表面上,所述滚轮带动所述柔性基板旋转;线性蒸镀源,固定设置于所述真空腔室中;且所述柔性基板上设置有待蒸镀区域,所述线形蒸镀源的喷口位于所述柔性基板的所述待蒸镀区域的正下方。该镀膜方法通过将基板揉成滚轮状覆盖在滚轮表面上,滚轮旋转时便可以让基板均匀地镀上有机材料。本发明通过点状的掩膜板设计加上滚轮旋转,便可以让有机材镀成线状,简化了掩模板设计和蒸镀的生产流程。
镀膜设备及其镀膜方法.pdf
镀膜设备及镀膜方法,所述镀膜装置,用于涂覆一基材,包括:一腔室体,具有一反应腔;一支撑架,其具有一支撑区,以供支撑所述基材于所述腔室体的所述反应腔;一单体释放源,具有一释放进口,以供引入一膜层形成材料进入所述腔室体的所述反应腔;以及一等离子激发源,其被放置于所述腔室体的所述反应腔,以供激发所述膜层形成材料,其中所述支撑架可移动地设置在所述反应腔中,并且该基材随着所述支撑架一起移动以形成该基材的一移动路径,其中在至少一部分所述移动路径期间,该基材位于所述单体释放源与所述等离子激发源之间,使得所述膜层被均匀地
镀膜设备及其镀膜方法.pdf
镀膜装置,用于涂覆多个基材,包括一具有一反应腔的腔室体,一支撑架,一单体释放源以及一等离子激发源。所述单体释放源具有至少一释放进口用于引入膜层形成材料进入所述腔室体的所述反应腔。所述等离子激发源被配置于所述腔室体的所述反应腔的一中间区域以激发所述膜层形成材料,其中多个所述基材被适应性地布置于在所述腔室体内的所述等离子激发源的周围,以增加在所述基材的所述表面的镀膜均匀性和提供沉积速度。