二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108015925A(43)申请公布日2018.05.11(21)申请号201711457114.9(22)申请日2017.12.28(71)申请人东莞联茂电子科技有限公司地址523000广东省东莞市虎门镇北栅村南坊工业区东坊大道168号(72)发明人冯吉成罗家宝蒋勇新杨庆飞罗孝普胡俊青(74)专利代理机构厦门市新华专利商标代理有限公司35203代理人徐勋夫(51)Int.Cl.B29B15/14(2006.01)权利要求书2页说明书4页附图1页(54)发明名称二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法(57)摘要本发明公开一种二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法，包括依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮,溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮,稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；含浸槽内设置有含浸滚轮组,含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。藉此，玻璃布经过了溶剂预浸槽的第一次预浸处理后再经过稀胶预浸槽的第二次预浸处理，最后进入含浸槽，从而使含浸效果达到最佳，本发明具有可实现性难度低，成本低的特点。CN108015925ACN108015925A权利要求书1/2页1.一种二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：包括有依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮,所述溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；所述稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮,所述稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；所述含浸槽内设置有含浸滚轮组,所述含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；所述外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。2.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第一下沉含浸滚轮设置有一个；所述外露含浸滚轮和第二下沉含浸滚轮的设置数量相等,两者均为一个以上。3.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述含浸槽的输出侧设置有并排设置的两个挤胶轮。4.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述溶剂预浸槽与稀胶预浸槽之间设置有第一导向定位滚轮,所述稀胶预浸槽与含浸槽之间设置有第二导向定位滚轮。5.根据权利要求4所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述溶剂预浸滚轮所在高度高于稀胶预浸滚轮所在高度。6.根据权利要求5所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第一导向定位滚轮所在高度低于溶剂预浸滚轮所在高度且高于稀胶预浸滚轮所在高度。7.根据权利要求6所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第二导向定位滚轮至少设置有两个；该两个第二导向定位滚轮中,其一第二导向定位滚轮衔接于稀胶预浸滚轮的输出侧,另一第二导向定位滚轮衔接于第一下沉含浸滚轮的输入侧,前述其一第二导向定位滚轮所在高度低于另一第二导向定位滚轮所在高度。8.一种二次预浸式半固化片含浸方法，其特征在于：其利用前述权利要求1至7中任一项所述的二次预浸式半固化片含浸装置进行处理；（1）准备步骤：溶剂预浸槽内装满所需要之溶剂，溶剂预浸滚轮部分浸没在溶剂中，部分露出液面上方；在稀胶预浸槽内装有胶液，稀胶预浸滚轮部分浸没在胶液中，部分露出液面上方；含浸槽内第一下沉含浸滚轮完全位于液面下，外露含浸滚轮全部或者部份露出液面，第二下沉含浸滚轮完全位于液面下；（2）工件处理步骤：将工件依次经溶剂预浸滚轮顶部、稀胶预浸滚轮底部、第一下沉含浸滚轮底部、外露含浸滚轮顶部、第二下沉含浸滚轮底部前进输送；在溶剂预浸槽内完成初步浸润，使工件处于湿润状态；在稀胶预浸槽内完成初步含浸，使胶液填充工件间隙，同时赶走工件内部间隙中的气泡；在含浸槽内完成浸胶。9.根据权利要求8所述的二次预浸式半固化片含浸方法，其特征在于：所述溶剂预浸滚轮的35-45%体积浸没在溶剂中，剩余65-55%体积露出；稀胶预浸滚轮的35-45%体积浸没在2CN108015925A权利要求书2/2页胶液中，剩余65-55%体积露出。10.根据权利要求8所述的二次预浸式半固化片含浸方法，其特征在于：所述溶剂预浸槽内装的溶剂为丙酮或丁酮；所述稀胶预浸槽内装的胶液为固含量在30%～40%之间的胶液。3CN108015925A说明书1/4页二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法技术领域[0001]本发明涉及覆铜板领域之半固化片生产技术，是一种提高半固化片含浸效果的二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法。背景技术[0