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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108026652A(43)申请公布日2018.05.11(21)申请号201680055119.6(74)专利代理机构北京戈程知识产权代理有限(22)申请日2016.09.23公司11314代理人程伟(30)优先权数据2015-1874912015.09.24JP(51)Int.Cl.C25D1/04(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日B32B15/04(2006.01)2018.03.22B32B15/20(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据C25D1/22(2006.01)PCT/JP2016/0781182016.09.23C25D5/16(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据H05K3/38(2006.01)WO2017/051906JA2017.03.30H05K3/46(2006.01)B32B15/08(2006.01)(71)申请人JX金属株式会社地址日本东京都(72)发明人森山晃正石井雅史权利要求书2页说明书23页附图1页(54)发明名称金属箔、附脱模层的金属箔、积层体、印刷配线板、半导体封装、电子机器及印刷配线板的制造方法(57)摘要本发明提供一种金属箔,其是通过在金属箔设置脱模层而使将该金属箔贴合于树脂基材时的树脂基材可物理性剥离,从而在将金属箔自树脂基材去除的步骤中,可在不损伤转印至树脂基材的表面的金属箔表面的轮廓的情况下以较佳的成本将金属箔去除,又,可将树脂成分不同的树脂彼此以良好的密接性贴合。本发明的金属箔是在至少一表面具有均方根高度Sq为0.25~1.6μm的表面凹凸。CN108026652ACN108026652A权利要求书1/2页1.一种金属箔,其在至少一表面具有均方根高度Sq为0.25~1.6μm的表面凹凸。2.一种金属箔,其在至少一表面具有均方根高度Sq与凹凸的平均间隔Rsm之比(Sq/Rsm)为0.05~0.40的表面凹凸。3.根据权利要求1所述的金属箔,其在至少一表面具有均方根高度Sq与凹凸的平均间隔Rsm之比(Sq/Rsm)为0.05~0.40的表面凹凸。4.根据权利要求1至3中任一项所述的金属箔,其厚度为5~105μm。5.根据权利要求1至4中任一项所述的金属箔,其中,上述金属箔为铜箔。6.根据权利要求1至5中任一项所述的金属箔,其中,在上述金属箔的表面设置有选自由粗化处理层、耐热层、防锈层、铬酸盐处理层及硅烷偶合处理层所组成的群中的一种以上的层。7.根据权利要求6所述的金属箔,其中,在上述选自由粗化处理层、耐热层、防锈层、铬酸盐处理层及硅烷偶合处理层所组成的群中的一种以上的层的表面设置有树脂层。8.根据权利要求7所述的金属箔,其中,上述树脂层是接着用树脂、底涂剂或半硬化状态的树脂。9.一种附脱模层的金属箔,其具备:权利要求1至8中任一项所述的金属箔;及脱模层,其设置在上述金属箔的具有表面凹凸的面侧,且使自上述脱模层侧向上述金属箔贴合有树脂基材时的上述树脂基材可剥离。10.根据权利要求9所述的附脱模层的金属箔,其中,上述脱模层是单独使用或组合使用数种下式所表示的铝酸盐化合物、钛酸盐化合物、锆酸盐化合物、它们的水解生成物、该水解生成物的缩合物而成,[化学式1]12(R)m-M-(R)n(式中,R1为烷氧基或卤素原子,R2为选自由烷基、环烷基及芳基所组成的群中的烃基、或一个以上的氢原子被取代为卤素原子的这些基中的任一烃基,M为Al、Ti、Zr中的任一者,n为0、1或2,m为1以上且M的价数以下的整数,至少一个R1为烷氧基;再者,m+n为M的价数,即,在Al的情形时为3,在Ti、Zr的情形时为4)。11.根据权利要求9所述的附脱模层的金属箔,其中,上述脱模层是单独使用或组合使用数种下式所表示的硅烷化合物、其水解生成物、该水解生成物的缩合物而成,[化学式2](式中,R1为烷氧基或卤素原子,R2为选自由烷基、环烷基及芳基所组成的群中的烃基、或一个以上的氢原子被取代为卤素原子的这些基中的任一烃基,R3及R4分别独立地为卤素原子、或烷氧基、或者选自由烷基、环烷基及芳基所组成的群中的烃基、或一个以上的氢原子被取代为卤素原子的这些基中的任一烃基)。2CN108026652A权利要求书2/2页12.根据权利要求9所述的附脱模层的金属箔,其中,上述脱模层是使用分子内具有2个以下的巯基的化合物而成。13.根据权利要求9至12中任一项所述的附脱模层的金属箔,其中,在上述脱模层表面设置有树脂层。14.根据权利要求13所述的附脱模层的金属箔,其中,上述树脂层是接着用树脂、底涂剂或半硬化状态的树脂。15.一种积层体,其具备:权利要求1至8中任一项所述的金属箔、或权利要求9至14中任一项所述的