一种硅块清洗装置.pdf
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相关资料
一种硅块清洗装置.pdf
本发明公开了一种硅块清洗装置,包括清洗筒、送料板、输送带和下料板,所述清洗筒为中空的筒体,所述送料板连接有转轴,所述转轴连接电机,所述电机控制所述送料板转动并控制所述送料板进入所述清洗筒内或离开所述清洗筒,使所述送料板能反复向所述清洗筒内送料,所述输送带包括棍和固定杆,所述棍横向均匀设置于所述两个固定杆之间,所述固定杆内对应棍两端设有齿轮,所述齿轮与所述棍的两端固定连接,所述齿轮通过驱动齿轮带动其转动,所述齿轮依次齿合配合,位于最末端的所述齿轮与驱动齿轮齿合配合,通过与棍连接的各齿轮之间的配合,使相邻棍均
一种硅块清洗烘干装置.pdf
本发明提供一种硅块清洗烘干装置,包括:清洗单元,其用于对破碎完成后的硅块表面进行清洗处理;烘干单元,其用于对清洗完成后的硅块进行烘干处理;以及,冷却单元,其用于对烘干完成后的硅块进行冷却处理。本发明所述硅块清洗烘干装置能够充分清洗硅块以去除其表面残留物和划痕。
一种硅块切割装置.pdf
本发明公开了一种硅块切割装置,用于将硅块加工成硅片,包括至少两个导轮及线体,导轮的外侧表面设置若干密度均匀的线槽,线体依次螺旋状环绕设置在所述线槽内,构成上下不交叉的线网,放线端导轮的线槽槽距值大于收线端导轮的线槽槽距值,所述放线端和所述收线端分别为线体相对脱离和相对卷入导轮的线端。采用本发明的梯形线网硅块切割装置,可降低切割硅片厚度偏差,实用性强,结构设计简单可行。
一种超临界二氧化碳硅块清洗装置、硅块处理系统及方法.pdf
本发明涉及半导体加工技术领域,尤其涉及一种超临界二氧化碳硅块清洗装置,包括:槽体,提供硅块清洗的封闭空间;调压装置,在硅块清洗前将封闭空间内的压力调节至高于二氧化碳的超临界压力,且在清洗过程中保持压力不变;以及,在硅块清洗完毕后降低槽体内压力,而使得二氧化碳气化;控温装置,在硅块清洗前将封闭空间内的温度调节至高于二氧化碳的超临界温度,且在清洗过程中保持温度不变;压缩装置,对来自槽体内经气化后的二氧化碳进行压缩而形成液态的二氧化碳;二氧化碳储槽,对液态的二氧化碳进行存储、供给和回收。通过本发明,可有效将硅块
一种多晶硅清洗方法及清洗装置.pdf
本发明公开一种多晶硅清洗方法,包括如下步骤:预清洗掉多晶硅表面附着沉积的杂质;用清洗剂清洗多晶硅;超声清洗去除掉清洗剂残留;脱水干燥。在采用清洗剂进行清洗前先对多晶硅进行预清洗,通过物理方式去除掉沉积在多晶硅表面而没有紧固黏附的杂质,然后再放入清洗剂中通过进行清洗,从而在保证清洗效果的同时减少清洗剂消耗量。本发明还公开了一种适用于上述清洗方法的多晶硅清洗装置。