一种带清洗装置的化学镀铜设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108754464A(43)申请公布日2018.11.06(21)申请号201810328133.X(22)申请日2018.04.08(71)申请人张新雨地址054300河北省邢台市临城县鸭鸽营乡岗上村65号(72)发明人张新雨(51)Int.Cl.C23C18/38(2006.01)B08B9/087(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种带清洗装置的化学镀铜设备(57)摘要本发明公开了一种带清洗装置的化学镀铜设备，包括底座，所述底座的顶部中间位置固定有化学镀铜池，底座的顶部一侧固定有第一安装筒，第一安装筒的内底部安装有驱动电机，驱动电机的输出轴通过联轴器固定有螺纹杆，电机座的内部安装有伺服电机，且伺服电机的输出轴固定有连接块，而连接块的两端固定有推杆电机，推杆电机远离连接块的一端固定有竖杆，所述竖杆的内部设有安装腔，安装腔中安装有电热管，所述竖杆远离连接块的一侧固定有弧形板，两个推杆电机的底部均固定有升降装置，升降装置的下端固定有卷筒，所述化学镀铜池的内底部对称固定有两个导向轮。本发明结构独特，设计巧妙，结构合理，清洗方便，适合推广。CN108754464ACN108754464A权利要求书1/1页1.一种带清洗装置的化学镀铜设备，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)的顶部中间位置固定有化学镀铜池(7)，底座(1)的顶部一侧固定有第一安装筒(4)，第一安装筒(4)的内底部安装有驱动电机(8)，驱动电机(8)的输出轴通过联轴器固定有螺纹杆(5)，且螺纹杆(5)的上端活动安装在第一安装筒(4)的内顶部，螺纹杆(5)上螺纹套接有第一滑动板(6)，所述底座(1)的顶部远离第一安装筒(4)的一侧固定有第二安装筒(17)，第二安装筒(17)的内部设有滑杆(16)，且滑杆(16)上滑动套设有第二滑动板(15)，第一滑动板(6)与第二滑动板(15)之间固定有顶杆(10)，顶杆(10)的底部中间位置固定有电机座(11)，电机座(11)的内部安装有伺服电机(12)，且伺服电机(12)的输出轴固定有连接块(13)，而连接块(13)的两端固定有推杆电机(14)，推杆电机(14)远离连接块(13)的一端固定有竖杆(23)，所述竖杆(23)的内部设有安装腔，安装腔中安装有电热管(24)，所述竖杆(23)远离连接块(13)的一侧固定有弧形板(22)，两个推杆电机(14)的底部均固定有升降装置(20)，升降装置(20)的下端固定有卷筒(18)，所述化学镀铜池(7)的内底部对称固定有两个导向轮(19)。2.根据权利要求1所述的一种带清洗装置的化学镀铜设备，其特征在于，所述弧形板(22)与化学镀铜池(7)的内壁相吻合，化学镀铜池(7)为圆形结构。3.根据权利要求1所述的一种带清洗装置的化学镀铜设备，其特征在于，所述弧形板(22)远离竖杆(23)的一侧固定有毛刷。4.根据权利要求1所述的一种带清洗装置的化学镀铜设备，其特征在于，其中一个卷筒(18)的侧面安装有电机，电机带动卷筒(18)转动，从而完成收卷的过程。5.根据权利要求1所述的一种带清洗装置的化学镀铜设备，其特征在于，所述底座(1)的底部四个角处均固定有支撑脚(3)，支撑脚(3)的下端固定有固定板，固定板的顶部两侧设有安装孔。6.根据权利要求1所述的一种带清洗装置的化学镀铜设备，其特征在于，所述底座(1)的底部安装有控制器(2)，控制器(2)内设有型号为AT89C51的单片机，单片机分别与驱动电机(8)、伺服电机(12)、推杆电机(14)和升降装置(20)连接。7.根据权利要求1所述的一种带清洗装置的化学镀铜设备，其特征在于，所述升降装置(20)采用气缸。8.根据权利要求1所述的一种带清洗装置的化学镀铜设备，其特征在于，所述化学镀铜池(7)的侧面下部连接有出液管(21)，而出液管(21)上安装有阀门。2CN108754464A说明书1/3页一种带清洗装置的化学镀铜设备技术领域[0001]本发明涉及镀铜技术领域，尤其涉及一种带清洗装置的化学镀铜设备。背景技术[0002]化学镀铜是电路板制造中的一种工艺，通常也叫沉铜或孔化(PTH)是一种自身催化性氧化还原反应。首先用活化剂处理，使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒子通常用的是金属钯粒子(钯是一种十分昂贵的金属，价格高且一直在上升，为降低成本现在国外有实用胶体铜工艺在运行)，铜离子首先在这些活性的金属钯粒子上被还原，而这些被还原的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层，使铜的还原反应继续在这些新的铜晶核表面上进行。化学镀铜是电路板制造中的一种工艺，通常也叫沉铜或孔化(PTH)是一种自身催化性氧化还原反应。首先用活化剂处理，使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒