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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112458527A(43)申请公布日2021.03.09(21)申请号202011100931.0(22)申请日2020.10.15(71)申请人深圳市鑫达辉软性电路科技有限公司地址518000广东省深圳市坪山新区坑梓秀新社区新村工业区牛昇路3号(72)发明人黄栋(74)专利代理机构深圳倚智知识产权代理事务所(普通合伙)44632代理人霍如肖(51)Int.Cl.C25D21/08(2006.01)C23G3/00(2006.01)B01D29/03(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图5页(54)发明名称一种用于电镀铜球处理的清洗设备(57)摘要本发明公开了一种用于电镀铜球处理的清洗设备,包括设备主体,设备主体顶部设置有盖体,盖体上端圆心位置设置有空气阀,设备主体底部设置有三组支腿,三组支腿之间架设有连接架,连接架上端面位于支腿之间设置有液压缸,液压缸内部贯穿设置有液压杆,设备主体内部底端设置有放置座,放置座上端设置有清洗缸,清洗缸内部底端设置有过滤装置,清洗缸上端一侧开设有进液管,清洗缸底部另一侧开设有出液管,出液管同侧上端开设有进料口,进液管同侧底部开设有出料口;该一种用于电镀铜球处理的清洗设备通过设置搅拌装置,搅拌桨呈螺旋状攀附在转轴上端,能够更好带动溶液呈螺旋状旋转,使得铜球能够与溶液更充分的接触,提示该设备的清洗效率。CN112458527ACN112458527A权利要求书1/2页1.一种用于电镀铜球处理的清洗设备,其特征在于:包括设备主体(1),所述设备主体(1)顶部设置有盖体(2),所述盖体(2)上端圆心位置设置有空气阀(3),所述设备主体(1)底部设置有三组支腿(4),所述三组支腿(4)之间架设有连接架(5),所述连接架(5)上端面位于支腿(4)之间设置有液压缸(6),所述液压缸(6)内部贯穿设置有液压杆(7),所述设备主体(1)内部底端设置有放置座(9),所述放置座(9)上端设置有清洗缸(8),所述清洗缸(8)内部底端设置有过滤装置(10),所述清洗缸(8)上端一侧开设有进液管(11),所述清洗缸(8)底部另一侧开设有出液管(12),所述出液管(12)同侧上端开设有进料口(13),所述进液管(11)同侧底部开设有出料口(14),所述设备主体(1)内部顶端两侧均开设有卡槽(15),所述两组卡槽(15)内部卡接有安装架(16),所述安装架(16)上端设置有电机(17),所述电机(17)底部位于安装架(16)底端设置有搅拌装置(18),所述设备主体(1)内腔顶部一侧设置有传感器(19),所述设备主体(1)外壁设置有玻璃视窗(20),所述设备主体(1)外壁底端设置有控制面板(21)。2.根据权利要求1所述的一种用于电镀铜球处理的清洗设备,其特征在于:所述设备主体(1)上端对应盖体(2)位置开设有开口(101),所述盖体(2)底部固定连接有密封塞(201),所密封塞(201)外壁螺纹与开口(101)螺纹相适配,所述开口(101)内径与密封塞(201)外径一致。3.根据权利要求1所述的一种用于电镀铜球处理的清洗设备,其特征在于:所述设备主体(1)底部焊接有三组支腿(4),所述各组支腿(4)呈等边三角形排布,所述各组支腿(4)之间架设有连接架(5)。4.根据权利要求1所述的一种用于电镀铜球处理的清洗设备,其特征在于:所述连接架(5)上端圆形位置固定连接有液压缸(6),所述液压缸(6)内部贯穿设置有液压杆(7),所述液压杆(7)贯穿于设备主体(1)底部并向其内部延伸,所述液压杆(7)向设备主体(1)内部延伸的一端与放置座(9)相连接。5.根据权利要求1所述的一种用于电镀铜球处理的清洗设备,其特征在于:所述设备主体(1)内部底端固定连接有放置座(9),所述放置座(9)上端面固定安装有清洗缸(8),所述清洗缸(8)由316不锈钢材质构成。6.根据权利要求1所述的一种用于电镀铜球处理的清洗设备,其特征在于:所述清洗缸(8)内部底端设置有过滤装置(10),所述过滤装置(10)包括过滤板(1001)、承接板(1002)、抬升机构(1003)、铰接部(1004)、电磁铁(1005)以及弹簧(1006),所述过滤装置(10)底部固定安装有承接板(1002),所述承接板(1002)与放置座(9)相接,所述承接板(1002)上端活动连接有过滤板(1001),所述过滤板(1001)由聚四氟乙烯材质构成的网状结构,且内部开设有若干组圆孔,所述过滤板(1001)与承接板(1002)之间设置有抬升机构(1003)以及铰接部(1004),所述抬升机构(1003)内部设置有两组电磁铁(1005),所述两组电磁铁(1005)分别设置在过滤板(1001)底部和承接板(