重叠校正方法和使用该方法的控制系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108873612A(43)申请公布日2018.11.23(21)申请号201810460915.9(22)申请日2018.05.15(30)优先权数据10-2017-00601572017.05.15KR(71)申请人三星电子株式会社地址韩国京畿道(72)发明人李承润黄灿(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人张泓(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)H01L21/027(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书3页说明书11页附图24页(54)发明名称重叠校正方法和使用该方法的控制系统(57)摘要一种校正重叠的方法，包括：在第一衬底上形成第一图案；在第一图案上形成第二图案；获得第二图案的第一重叠误差轮廓并从第一重叠误差轮廓获得第一重叠校正轮廓；在第二图案上形成第三图案；获得第三图案的第二重叠误差轮廓并从第二重叠误差轮廓获得第二重叠校正轮廓；以及在第二衬底上形成第二图案，其中在第二衬底上形成第二图案包括：确定第二重叠校正轮廓是否具有不可校正的模型参数；并且当第二重叠校正轮廓具有不可校正的模型参数时，获得初步校正轮廓以校正待在第二衬底上形成的第二图案的位置。CN108873612ACN108873612A权利要求书1/3页1.一种校正重叠的方法，包括：使用第一制造系统在第一衬底上形成第一图案；使用所述第一制造系统在所述第一图案上形成第二图案；获得所述第二图案相对于所述第一图案的第一重叠误差轮廓，并且从所述第一重叠误差轮廓获得第一重叠校正轮廓；使用第二制造系统在所述第二图案上形成第三图案；获得所述第三图案相对于所述第二图案的第二重叠误差轮廓，并且从所述第二重叠误差轮廓获得第二重叠校正轮廓；以及使用所述第一制造系统在第二衬底上形成所述第二图案，其中，在所述第二衬底上形成所述第二图案包括：确定所述第二重叠校正轮廓是否具有不能用于校正所述第二制造系统的控制参数的不可校正的模型参数；以及当所述第二重叠校正轮廓具有所述不可校正的模型参数时，获得所述第一制造系统的初步校正轮廓，以在所述第二衬底上形成所述第二图案之前校正所述第二图案的位置。2.根据权利要求1所述的方法，还包括使用通过将所述初步校正轮廓添加到所述第一重叠校正轮廓而获得的结果轮廓，利用所述第一制造系统校正所述第二图案在所述第二衬底上的位置。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一重叠校正轮廓具有与所述第一重叠误差轮廓的符号相反的符号，其中，所述符号包括正数学符号或负数学符号，以及所述初步校正轮廓与所述第一重叠误差轮廓相同。4.根据权利要求1所述的方法，还包括使用所述第一制造系统在第三衬底上形成所述第一图案，其中，在所述第三衬底上形成所述第一图案包括：当校正所述第二图案在所述第二衬底上的位置时，使用校正惩罚轮廓来在所述第三衬底上形成所述第一图案之前校正所述第一图案的位置，以及所述校正惩罚轮廓与所述初步校正轮廓相同。5.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述第二衬底上形成所述第二图案还包括：在所述第二重叠校正轮廓不具有不可校正的模型参数时，使用所述第一重叠校正轮廓来在所述第二衬底上形成所述第二图案之前校正所述第二图案的位置。6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一制造系统包括氟化氩(ArF)浸没式曝光系统，以及所述第二制造系统包括极紫外光刻(EUV)曝光系统。7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述第一重叠校正轮廓和所述第二重叠校正轮廓中的每个如下给出：223223a1+a2x+a3y+a4x+a5xy+a6y+a7x+a8xy+a9xy+a10y，其中，a1、a2、a3、a4、a5、a6、a7、a8、a9和a10分别为第一模型参数、第二模型参数、第三模型参数、第四模型参数、第五模型参数、第六模型参数、第七模型参数、第八模型参数、第九模型参数和第十模型参数，x和y是位置坐标，以及2CN108873612A权利要求书2/3页不可校正的模型参数是EUV曝光系统的控制参数。8.根据权利要求7所述的方法，还包括使用所述第二重叠校正轮廓来在所述第二衬底上形成所述第三图案之前校正所述第三图案的位置，其中，所述第七模型参数被所述初步校正轮廓抵消。9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第七模型参数在EUV曝光系统中是固定的。10.根据权利要求1所述的方法，其中，分别从第一重叠误差和第二重叠误差获得所述第一重叠误差轮廓和所述第二重叠误差轮廓，所述第一重叠误差是所述第二图案相对于所述第一图案的位移，以及所述第二重叠误差是所述第三图案相对于所述第二图案的位移。11.一种校正重叠的方法，包括：使用第一制造系统在第一衬底上形成第一图案；使用第二制造系统在所述第一图案上