深度图处理方法及装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108986156A(43)申请公布日2018.12.11(21)申请号201810579439.2(22)申请日2018.06.07(71)申请人成都通甲优博科技有限责任公司地址610000四川省成都市天府新区华阳街道天府大道南段846号(72)发明人龙学军晁志超罗军(74)专利代理机构北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371代理人王宁宁(51)Int.Cl.G06T7/50(2017.01)G06T5/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图3页(54)发明名称深度图处理方法及装置(57)摘要本发明涉及图像处理技术领域，具体涉及一种深度图处理方法及装置，该深度图处理方法及装置应用于终端，该方法包括获取原始深度图，进而获取所述原始深度图中主体的主体轮廓，根据所述主体轮廓对所述原始深度图进行处理得到第一深度图，将所述第一深度图与原始深度图进行匹配，得到匹配结果，并根据所述匹配结果对所述第一深度图进行处理。通过本方案的处理方法使得最后得到的深度图像在保证边界清楚的情况下，内部平滑，使得深度图具有更好的展示效果。CN108986156ACN108986156A权利要求书1/2页1.一种深度图处理方法，应用于终端，其特征在于，所述方法包括：获取原始深度图；获取所述原始深度图中主体的主体轮廓；根据所述主体轮廓对所述原始深度图进行处理得到第一深度图；将所述第一深度图与所述原始深度图进行匹配，得到匹配结果，并根据匹配结果对所述第一深度图进行处理。2.如权利要求1所述的深度图处理方法，其特征在于，所述根据所述主体轮廓对所述原始深度图进行处理得到第一深度图的步骤包括：统计所述原始深度图中与所述主体轮廓中第一深度值对应位置的像素的第一深度值均值；对所述原始深度图进行滤波后得到第二深度图；统计所述第二深度图中与所述主体轮廓中第一深度值对应位置的像素的第二深度值均值；根据所述第一深度值均值和第二深度值均值对所述第二深度图进行处理后得到第一深度图。3.如权利要求2所述的深度图处理方法，其特征在于，所述对所述原始深度图进行滤波后得到第二深度图的步骤包括：以所述主体轮廓为结构特征图，并根据所述主体轮廓对所述原始深度图进行结构传递滤波，得到第二深度图。4.如权利要求2所述的深度图处理方法，其特征在于，所述根据所述第一深度均值和第二深度均值对所述第二深度图进行处理后得到第一深度图的步骤包括：将所述第二深度图中对应于所述主体轮廓的位置的每个像素的深度值减去第二深度均值后再加上第一深度均值，得到第一深度图。5.如权利要求1所述的深度图处理方法，其特征在于，所述将所述第一深度图与所述原始深度图进行匹配，得到匹配结果，并根据匹配结果对所述第一深度图进行处理的步骤包括：统计所述第一深度图中每一个像素的深度值与所述原始深度图中对应像素的深度值的深度值绝对差；根据所述深度值绝对差调整所述第一深度图中的像素的深度值。6.如权利要求5所述的深度图处理方法，其特征在于，所述根据所述深度值绝对差调整所述第一深度图中的像素的深度值的步骤包括：若所述深度值绝对差大于预设阈值且所述像素对应的所述主体轮廓的像素的深度值为第二值，则将所述第一深度图中的像素的深度值调整为所述原始深度图的对应像素的深度值。7.如权利要求1所述的深度图处理方法，其特征在于，所述获取所述原始深度图中主体的主体轮廓的步骤包括：在所述原始深度图中识别主体区域，并对所述主体区域进行裁剪得到主体区域图像；对所述主体区域图像进行二值化处理得到二值图像；将所述二值图像还原成所述原始深度图中对应的主体大小，得到主体轮廓。2CN108986156A权利要求书2/2页8.一种深度图处理装置，应用于终端，其特征在于，所述装置包括：第一获取模块，用于获取原始深度图；第二获取模块，用于获取所述原始深度图中主体的主体轮廓；处理模块，用于根据所述主体轮廓对所述原始深度图进行处理得到第一深度图；匹配模块，用于将所述第一深度图与所述原始深度图进行匹配，得到匹配结果，并根据所述匹配结果对所述第一深度图进行处理。9.如权利要求8所述的深度图处理装置，其特征在于，所述处理模块还用于：统计所述原始深度图中与所述主体轮廓中第一深度值对应位置的像素的第一深度值均值；对所述原始深度图进行滤波后得到第二深度图；统计所述第二深度图中与所述主体轮廓中第一深度值对应位置的像素的第二深度值均值；根据所述第一深度值均值和第二深度值均值对所述第二深度图进行处理后得到第一深度图。10.如权利要求8所述的深度图处理装置，其特征在于，所述匹配模块还用于：统计所述第一深度图中每一个像素的深度值与所述原始深度图中对应像素的深度值的深度值绝对差；根据所述深度值绝对差调整所述第一深度图中