ZnO MOCVD的生长与性质研究的中期报告.docx

ZnOMOCVD的生长与性质研究的中期报告
目前，ZnO薄膜作为一种具有广泛应用前景的半导体材料，引起了学术界和工业界的广泛关注。其中，MOCVD（金属有机化学气相沉积）技术作为一种种优势突出的合成技术，也受到了越来越多的关注。
在我们的研究中，我们采用了MOCVD技术在蓝宝石基底上生长ZnO薄膜。我们对生长过程中的实验条件进行了系统的优化，包括沉积温度、气氛成分、金属有机前驱体浓度等。通过XRD和SEM等物理测试手段分析我们成功合成了高质量的ZnO薄膜，并得到以下结论：
1.沉积温度对ZnO薄膜的品质具有重要影响。当温度过低时，生长速率可控，但薄膜品质较差，晶体结构不稳定。当温度过高时，薄膜表面易形成粗糙和缺陷区域。
2.气氛成分也影响ZnO薄膜的质量。在较高的动态气氛中生长ZnO薄膜，薄膜品质明显优于在静态气氛中生长的薄膜。这表明氯和其他气氛成分有助于薄膜的生长和质量的提升。
3.金属有机前驱体浓度的增加可以显著提高ZnO薄膜的生长速率。但是当浓度过高时，会出现薄膜表面的纳米粒子。
另外，我们还研究了ZnO薄膜的一些光电性质。我们发现，该薄膜具有较高的透过率和半导体性质，并且拥有良好的荧光性质。
综上所述，我们的研究表明，通过优化生长条件和控制MOCVD成分及浓度，能够获得高品质的ZnO薄膜，并且具有较好的光电性能。这些结果将有望为制备高性能ZnO光电器件提供重要的基础。