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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109277955A(43)申请公布日2019.01.29(21)申请号201811004306.9(22)申请日2018.08.30(71)申请人郑州磨料磨具磨削研究所有限公司地址450001河南省郑州市高新区梧桐街121号(72)发明人赵延军闫宁惠珍熊华军丁玉龙(74)专利代理机构郑州联科专利事务所(普通合伙)41104代理人时立新(51)Int.Cl.B24D3/32(2006.01)B24D3/34(2006.01)B24D18/00(2006.01)B24B19/22(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图4页(54)发明名称一种用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮、其制备方法及应用(57)摘要本发明属于半导体封装材料加工技术领域,具体涉及一种用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮、其制备方法及应用。该砂轮由下述体积份数的原料制备而成:金刚石8-15份,粒度为w5的碳化硅3-7份,粒度w3.5为碳化硅5-10份,细石墨1-4份,酚醛树脂23-30份,热膨胀性微胶囊3.5-7份,偶联剂2-4份,本发明制备的用于QFN半导体封装材料减薄的砂轮,其气孔率50-60%,磨削出来的QFN半导体封装材料表面能够呈现镜面效果,工件粗糙度值Ra介于0.1-0.2μm之间,提高了QFN半导体封装材料的加工效率。CN109277955ACN109277955A权利要求书1/1页1.一种用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮,其特征在于,该砂轮由下述体积份数的原料制备而成:金刚石8-15份,粒度为w5的碳化硅3-7份,粒度为w3.5碳化硅5-10份,细石墨1-4份,酚醛树脂23-30份,热膨胀性微胶囊3.5-7份,偶联剂2-4份。2.如权利要求1所述用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮,其特征在于,该砂轮由下述体积份数的原料制备而成:金刚石10份,粒度为w5的碳化硅5份,粒度w3.5为碳化硅8份,细石墨2份,酚醛树脂25份,热膨胀性微胶囊5.5份,偶联剂2份。3.如权利要求1所述用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮,其特征在于,所述金刚石是粒度8-12μm的镀镍金刚石;热膨胀性微胶囊的粒径80-110μm,耐热温度160-170℃,真比重0.13。4.如权利要求1所述用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮,其特征在于,偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷。5.权利要求1-4任一所述用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将金刚石与部分偶联剂混合,并加入丙酮,超声处理后烘干,再与酚醛树脂混合,过筛;(2)粒度为w5、w3.5的碳化硅和细石墨混合过筛后,再与剩余偶联剂混合并加入丙酮,超声处理,烘干备用;(3)将步骤(1)得到的混合料与步骤(2)得到的混合料混合,过筛备用;(4)将步骤(3)最终得到的混合料球磨1-3h,并与热膨胀性微胶囊混合后过筛,得成型料,再对得成型料进行成型压制。6.如权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤(4)的成型步骤包括:将成型料投入到模具内,用热压成型机压制成型,将热压成型机升温到180-200℃,在初始压力0.8-1.2Mpa的条件下保温保压1-3min,再将压力提升到5-6Mpa,在2min内放气4次,每次30s,然后保压保温60-80min后卸模成形。7.权利要求3所述砂轮在磨削QFN半导体封装材料中的应用。2CN109277955A说明书1/5页一种用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮、其制备方法及应用技术领域[0001]本发明属于半导体封装材料加工技术领域,具体涉及一种用于QFN半导体封装材料磨削的砂轮、其制备方法及应用。背景技术[0002]在目前的集成电路发展中,每种电子元器件(IC器件)都有对应的封装形式,IC器件的封装形式是指实现半导体集成电路芯片功能的装配技术和外形规格,主要包括TO、DIP、QFP、QFN、BGA、CSP六大类。近几年封装体的变化主要是向着两个方向发展,一是提高容纳能力方向,例如提高引脚数以容纳更多功能在同一个封装体中,以在减少产品数量的同时实现相同功能,从而实现降低成本的目的;二是变小、变薄、变简洁方向,例如用QFN代替BGA,于是QFN封装的需求就愈加明显。[0003]QFN封装具有散热性能好,成本低,更加轻薄短小,封装流程简洁的特点,符合了封装类型向着高性能、小尺寸、低成本发展的要求。[0004]目前对QFN封装进行加工的工艺主要是半精磨或者精磨工序与抛光工序相组合的工艺,即,封装工序中一般只有半精磨或者精磨、抛光划痕两道工序,其工艺中主要的加工过程是选择不同砂轮对QFN封装进行减薄磨削,QFN封装体原始尺寸一般是234mm*74mm,厚度大于或等于500μm。减薄的主要目的