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功率MOS器件抗辐照能力无损评价方法研究的中期报告 本研究工作旨在探讨一种适用于功率MOS器件抗辐照能力无损评价的方法。研究进展如下: 1.控制实验条件 首先,我们从实验条件入手,控制了实验室环境和实验设备的稳定性。我们使用同样的辐照源、电源和测量设备,以及统一的温度和湿度条件,以使实验数据更准确、更可靠。 2.选择评价指标 接下来我们选择了几个重要的评价指标:漏电流、漏电流变化率、阈值电压、导通电阻、剪切强度和外观等。 3.实验方案 我们设计了一个实验方案,将不同剂量的离子辐照施加于功率MOS器件上,然后测量其不同评价指标的变化程度。同时,我们还将进行一些控制组实验。 4.实验进展 至今我们已经完成了功率MOS器件的离子辐照实验,并测量了不同剂量下的漏电流、漏电流变化率、阈值电压和导通电阻等指标。初步的结果表明,当剂量增加时,漏电流和漏电流变化率均有所增加,而阈值电压和导通电阻则呈现出先降低后增加的趋势。 5.下一步工作 我们将进一步分析实验数据,拟定评价准则,并来评估不同指标的敏感程度和可信度。下一步的工作将着重于评估实验数据的稳定性和可重复性,以及在实验条件下对功率MOS器件抗辐照能力的有效性和可靠性得出结论。