MOVPE法生长碲镉汞薄膜材料技术研究的任务书.docx
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MOVPE法生长碲镉汞薄膜材料技术研究的任务书任务名称:MOVPE法生长碲镉汞薄膜材料技术研究任务目的:通过MOVPE方法研究碲镉汞薄膜材料的生长技术,探索其在光电器件领域的应用。任务背景:碲镉汞材料是具有重要应用价值的半导体材料之一,可以用于太阳能电池、光电探测器、激光二极管等领域。其中MOVPE法是一种高效的薄膜生长方法,可以获得高品质的碲镉汞薄膜材料。因此,研究碲镉汞薄膜材料的MOVPE生长技术,对于加快其实际应用具有重要的意义。任务内容:1.设计碲镉汞薄膜生长的实验,并建立相关实验流程和操作规程。
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MOVPE法生长碲镉汞薄膜材料技术研究的中期报告碲镉汞(HgCdTe)是一种重要的红外材料,具有非常广阔的应用前景。其中,薄膜结构的HgCdTe材料是具有优异性能的重要材料之一。本研究采用金属有机气相沉积(MOVPE)法生长HgCdTe薄膜材料,并对其生长过程及其材料性能进行了研究。一、生长HgCdTe薄膜材料的实验条件本研究采用水银(Hg)、镉(Cd)和碲(Te)的金属有机气相沉积(MOVPE)法生长HgCdTe薄膜材料。实验采用石墨炉进行加热,并使用氢气(H2)作为载气气流。实验中,Hg使用TMGH,
液相外延碲镉汞薄膜的表面损伤研究.pptx
汇报人:CONTENTS添加章节标题液相外延碲镉汞薄膜的表面损伤类型表面粗糙度表面缺陷表面形貌表面化学状态液相外延碲镉汞薄膜的表面损伤机制表面能与表面张力表面扩散与迁移表面反应与氧化表面应力与应变液相外延碲镉汞薄膜的表面损伤影响因素薄膜厚度生长温度溶液组成与浓度溶液pH值添加剂与表面活性剂液相外延碲镉汞薄膜的表面损伤控制方法优化制备工艺表面处理技术表面改性技术表面涂层技术液相外延碲镉汞薄膜的表面损伤研究展望表面损伤对性能的影响机制表面损伤修复与增强技术表面损伤与器件性能关系研究汇报人:
原位As掺杂p型碲镉汞薄膜的制备研究.docx
原位As掺杂p型碲镉汞薄膜的制备研究原位As掺杂p型碲镉汞薄膜的制备研究摘要:近年来,p型碲镉汞(CdTeHg)薄膜因其在太阳能电池和半导体器件领域中的应用潜力而受到广泛关注。本论文研究了一种原位As掺杂的制备方法,通过在制备过程中控制As源的添加量和温度等参数,成功实现了As掺杂p型CdTeHg薄膜的制备。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和拉曼光谱等技术手段对样品进行了表征和分析,结果表明,As掺杂显著改善了p型CdTeHg薄膜的晶体结构和电子性质。1.引言碲镉汞材料因其在光电子器件中
Si基短波碲镉汞材料分子束外延生长研究.docx
Si基短波碲镉汞材料分子束外延生长研究近年来,由于短波红外及其以下频段的光电子学和信息技术的高速发展,导致了对高效、高性能红外探测器材料的需求不断增长。而Si基短波碲镉汞材料作为一种高性能和高效的红外探测器材料,已经得到广泛关注和研究。本文将阐述Si基短波碲镉汞材料分子束外延生长研究的相关内容。一、概述分子束外延技术是材料科学领域一种高效的材料制备技术,广泛应用于半导体器件和光电子器件的制备中。Si基短波碲镉汞材料作为一种高性能的红外探测材料,其制备技术也得到了广泛关注。本文将介绍Si基短波碲镉汞材料的分