一种静电吸盘翻新工装及其翻新方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109420965A(43)申请公布日2019.03.05(21)申请号201710736798.X(22)申请日2017.08.24(71)申请人中微半导体设备（上海）有限公司地址201201上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号(72)发明人杨金全徐朝阳雷仲礼(74)专利代理机构上海信好专利代理事务所(普通合伙)31249代理人潘朱慧(51)Int.Cl.B24B29/02(2006.01)B24B1/00(2006.01)B24B47/12(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种静电吸盘翻新工装及其翻新方法(57)摘要本发明公开了一种静电吸盘翻新工装及其翻新方法，工装设置在静电吸盘上，用于静电吸盘的上凸表面翻新，去除累积的聚合物，静电吸盘上凸表面外沿有环状密封保护带。工装包含：抛光装置，采用行星齿轮结构，包含一主动齿轮、一行星齿轮、一内齿轮；行星齿轮下方同轴连接抛光砂盘，抛光砂盘与静电吸盘上凸表面紧密贴合，工作时主动齿轮自转带动行星齿轮公转及自转，从而令抛光砂盘也进行公转及自转的复合运动，从而对静电吸盘上凸表面累积的聚合物进行抛光；支撑座，设置在静电吸盘和抛光装置之间，由下至上按静电吸盘、支撑座、抛光装置的顺序，中心对齐叠放，并固定。本发明解决了纯人工翻新静电吸盘时用力不恒定，抛光面抛光不均、不光滑的问题。CN109420965ACN109420965A权利要求书1/1页1.一种静电吸盘翻新工装，设置在静电吸盘（1）上，用于对静电吸盘（1）上凸表面翻新，去除累积的聚合物，所述静电吸盘（1）上凸表面外沿有环状密封保护带（11），其特征在于，该工装包含：抛光装置（2），采用行星齿轮结构，其包含一主动齿轮（21）、一行星齿轮（22）、一内齿轮（23）；行星齿轮（22）下方同轴连接抛光砂盘（25），抛光砂盘（25）与静电吸盘（1）上凸表面紧密贴合，工作时主动齿轮（21）自转带动行星齿轮（22）公转及自转，从而令抛光砂盘（25）也进行公转及自转的复合运动，从而对静电吸盘（1）上凸表面累积的聚合物进行抛光；支撑座（3），设置在静电吸盘（1）和抛光装置（2）之间，由下至上按静电吸盘（1）、支撑座（3）、抛光装置（2）的顺序，中心对齐叠放，并固定。2.如权利要求1所述的一种静电吸盘翻新工装，其特征在于，还包含：一贴合于所述密封保护带（11）上的遮挡部，用于在抛光时对密封保护带（11）进行保护，以保护其不受摩擦。3.如权利要求2所述的一种静电吸盘翻新工装，其特征在于，所述支撑座（3）的横截面为横置的T字形，其内圈突出部分作为所述遮挡部，设置到静电吸盘（1）上时，该内圈突出部分与密封保护带（11）重合，起保护作用。4.如权利要求1所述的一种静电吸盘翻新工装，其特征在于，所述主动齿轮（21）上设置一手柄（24），手柄（24）围绕主动齿轮（21）的圆心旋转，带动主动齿轮（21）自转。5.如权利要求1所述的一种静电吸盘翻新工装，其特征在于，所述抛光砂盘（25）的底面固定有可拆装的砂纸。6.如权利要求2所述的一种静电吸盘翻新工装，其特征在于，静电吸盘（1）的上凸表面半径为r，密封保护带（11）的环宽为a，抛光砂盘（25）的直径为d，d≥（r-a）。7.如权利要求1所述的一种静电吸盘翻新工装，其特征在于，在抛光砂盘（25）和行星齿轮（22）之间增加配重，调整压强，以满足抛光的要求。8.如权利要求6所述的一种静电吸盘翻新工装，其特征在于，设置抛光砂盘（25）时，抛光砂盘（25）内切于密封保护带（11），以保证抛光时不会磨损密封保护带（11）。9.一种静电吸盘翻新方法，使用权利要求1~8中任意一项所述的工装来完成，其特征在于，该翻新方法包含以下步骤：S1、支撑座（3）架在静电吸盘（1）上，中心对齐；S2、将配重叠加在抛光砂盘（25）上；S3、将抛光装置（2）放在支撑座（3）上，中心对齐，同时行星齿轮（22）的转轴依次穿过配重和抛光砂盘（25）；S4、固定静电吸盘（1）、抛光装置（2）和支撑座（3）相对位置；S5、驱动主动齿轮（21），令抛光砂盘（25）均匀抛光静电吸盘（1）上凸表面，以去除其上积累的聚合物。10.如权利要求9所述的一种静电吸盘翻新方法，其特征在于，采取人工手动或电动驱动的方式驱动主动齿轮（21）。2CN109420965A说明书1/3页一种静电吸盘翻新工装及其翻新方法技术领域[0001]本发明涉及等离子体刻蚀技术领域，具体涉及一种静电吸盘翻新工装及其翻新方法。背景技术[0002]在制造IC芯片的产业领域中，在对半导体晶片进行加工的工序中，广泛使用静电吸盘装置。由于在刻蚀晶片时普遍使用的是反应性高的F、Cl等的卤素系等离子