用于激光处理的装置和方法.pdf
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用于激光处理的装置和方法.pdf
可以通过一种方法对工件进行激光处理,该方法可以包括在工件中形成轮廓线、以及沿着轮廓线或在轮廓线附近将红外激光束引导到工件上以沿着轮廓线分离工件。轮廓线可以包括工件中的缺陷。红外激光束可以具有光束轮廓,使得来自红外激光束的累积能量的较大分布位于与轮廓线邻近的区域中而不是直接在轮廓线上。
用于管道内壁表面处理的激光搭载装置及激光处理方法.pdf
本发明公开了一种用于管道内壁表面处理的激光搭载装置和激光处理方法,激光搭载装置包括激光分光镜、分设于激光分光镜两端的两根固定杆、分别设置在两根固定杆上的两组移动架组件。移动架组件包括枢轴连接在固定杆上的安装座、分设于安装座两侧的两组导向架。每组的导向架均包括相互交叉且在交叉处通过转轴相枢轴连接的两根导向杆、设置在两根导向杆之间的弹性件,每根所述导向杆的两端均设置有滚轮,所述导向架通过所述转轴枢轴连接在所述安装座上。本发明通过在分光镜两端加设移动架组件,可对分光镜实现稳固定位,同时保护分光镜避免其与管道内壁
用于材料处理的激光装置.pdf
一种用于材料处理、特别是用于对人眼(12)进行激光处理的激光装置(10),所述激光装置包括脉冲激光束(16)的源(14);检测器系统,所述检测器系统用于对通过辐射耦合输出而从所述激光束产生的多个部分光束(16’,16”)进行光电检测并提供相应检测信号,以及评估单元(24),所述评估单元连接至所述检测器系统、用于评估所述检测信号。所述检测器系统的第一检测元件(32)提供第一检测信号,所述信号基于单光子吸收。所述检测器系统的第二检测元件(34)提供第二检测信号,所述信号基于双光子吸收。在某些实施例中,所述控制
用于处理基板的装置和用于处理基板的方法.pdf
本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。本发明构思提供了一种掩模处理装置。该掩模处理装置包括支承单元,该支承单元被配置成支承并旋转掩模,该掩模在其多个单元内具有第一图案并且在该多个单元的区域之外具有第二图案;以及加热单元,该加热单元具有激光照射器,该激光照射器用于将激光照射到支承在该支承单元上的该掩模的特定区域;以及控制器,该控制器被配置成控制该支承单元和该加热单元,并且其中该支承单元包括:支承部,该支承部用于支承该掩模;以及移动台部,该移动台部被配置成移动该支承部的位置,并且其中该控制器控制该
特征处理方法、装置和用于处理特征的装置.pdf
本申请实施例公开了特征处理方法、装置和用于处理特征的装置。该方法的实施例包括:对音频数据进行分帧加窗处理,并提取各窗口的音频帧特征;将首个窗口的音频帧特征输入至卷积神经网络,得到首个窗口的特征处理结果;依次将其余每个窗口作为目标窗口,执行如下步骤:确定目标窗口相对于上一窗口的重复帧特征和非重复帧特征;基于卷积神经网络确定非重复帧特征的特征处理结果,从上一窗口的特征处理结果中提取重复帧特征的特征处理结果,并基于非重复帧特征的特征处理结果和重复帧特征的特征处理结果,确定目标窗口的特征处理结果。该实施方式避免了