一种用于半导体加工的清洗装置.pdf
康平****ng
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相关资料
一种用于半导体加工的清洗装置.pdf
本发明公开了一种用于半导体加工的清洗装置,包括机体、工作台、排屑斗、储水箱、喷头、双向扫刷装置和冲洗装置,该清洗装置通过在机体内部右下侧安装了双向扫刷装置,在第二电机通电工作后,带动第三齿轮转动,使第四齿轮和第五齿轮分别带动上毛刷辊和下毛刷辊进行转动,对半导体上下两面同时进行扫刷,改变了现有技术中只能单面进行扫刷的不足之处,使半导体清洗的更加均匀,提高了清洗的效率,同时在排屑斗右侧设置了冲洗装置,在第二水泵开启后,将储水箱内水抽出,然后由螺旋喷嘴喷射至排屑斗内表面,将其粘黏的碎屑冲洗掉,从而便于后续的清理
一种半导体产品生产加工用清洗装置.pdf
本发明公开了一种半导体产品生产加工用清洗装置,包括承载底座、清洗单元和滤液单元,所述清洗单元和滤液单元均设于承载底座上,清洗单元包括清洗箱和刷洗组件,刷洗组件设于清洗箱内,该装置结构布局合理,操作简单,使用方便,能够将半导体产品机械化进行清洗,清洁效果好且具备快速烘干功能,大大提高半导体产品生产加工效率及质量,非常具有实用性。
一种用于齿轮加工的清洗装置.pdf
本发明公开了一种用于齿轮加工的清洗装置,包括机体,机体上侧左端开设有进料口,进料口处设有盖板,盖板的右端通过转轴与机体转动连接,盖板上侧外壁上设有把手,机体内部上侧设有花洒,花洒的进水口处连接有进水管,在进水管上设有增压泵,机体右侧底端开设有循环出水口,循环出水口处连接有循环水管,本发明用于齿轮加工的清洗装置,清洗效果好、效率高,能够对齿轮进行充分的清洗,有效的节约了能源,降低了使用成本,可对齿轮进行臭氧清洗,保证了清洗效果和齿轮质量,另外能够有效减震,减震效果好,降低了噪音,延长了使用寿命。
一种半导体加工基板清洗装置及清洗方法.pdf
本发明公开了一种半导体加工基板清洗装置及清洗方法,其装置包括清洗水箱,其特征在于,所述清洗水箱的两端分别设有上料流水线和下料流水线,所述上料流水线和下料流水线上均设有流水线传动链,所述上料流水线上设有加工基板,所述加工基板上方设有基板导套,所述清洗水箱的后方设有机械手,所述机械手的输出端设有机械爪,所述机械爪能够夹持加工基板上的基板导套,所述下料流水线上设有烘干站。本发明与现有技术相比的优点在于:基板的清洗效率高,可避免人为原因造成的基板损坏且能改善操作人员工作环境,降低劳动强度。
一种半导体晶圆加工清洗装置.pdf
本发明公开了一种半导体晶圆加工清洗装置,涉及半导体材料制造领域,本发明包括箱体,所述箱体内腔底部固定连接有转动电机,所述转动电机顶端固定连接有转盘,转盘内部开设有水槽,且转盘与箱体内壁为滑动连接,转盘上表面边缘开设有伸缩槽,所述转盘上表面中部固定连接有静电吸盘;本发明通过转盘、水槽、受力板、充气槽以及伸缩气囊之间的配合,利用水槽内部的水流转动时产生的离心力作用,使得受力板向充气槽内部回缩,从而使得伸缩气囊鼓胀向外伸出,以此晶圆侧壁紧密贴合,进而提高了对晶圆的夹持效果,确保了晶圆的稳定性,为离子注入工艺的顺