一种半导体产品生产加工用清洗装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111744874A(43)申请公布日2020.10.09(21)申请号202010637369.9(22)申请日2020.07.03(71)申请人顾骏地址241200安徽省芜湖市繁昌县荻港镇南桥老埠头7号(72)发明人顾骏(74)专利代理机构合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙)34126代理人陈飞(51)Int.Cl.B08B3/10(2006.01)B08B1/04(2006.01)B08B13/00(2006.01)F26B21/00(2006.01)F26B25/04(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种半导体产品生产加工用清洗装置(57)摘要本发明公开了一种半导体产品生产加工用清洗装置，包括承载底座、清洗单元和滤液单元，所述清洗单元和滤液单元均设于承载底座上，清洗单元包括清洗箱和刷洗组件，刷洗组件设于清洗箱内，该装置结构布局合理，操作简单，使用方便，能够将半导体产品机械化进行清洗，清洁效果好且具备快速烘干功能，大大提高半导体产品生产加工效率及质量，非常具有实用性。CN111744874ACN111744874A权利要求书1/1页1.一种半导体产品生产加工用清洗装置，包括承载底座（1）、清洗单元和滤液单元，其特征在于，所述清洗单元和滤液单元均设于承载底座（1）上，清洗单元包括清洗箱（16）和刷洗组件，刷洗组件设于清洗箱（16）内。2.根据权利要求1所述的半导体产品生产加工用清洗装置，其特征在于，所述清洗箱（16）通过多根支撑杆（22）固定设于承载底座（1）上方，清洗箱（16）顶部设有产品投放口（8）,清洗箱（16）底部设有用于将清洗好的半导体产品取出的产品出口（26）,产品出口（26）上设有阀门。3.根据权利要求1所述的半导体产品生产加工用清洗装置，其特征在于，所述刷洗组件包括两根转管（18）,清洗箱（16）内壁上固定贴设有一层毛刷垫（17）,毛刷垫（17）毛刷面朝向清洗箱（16）中心，两根转管（18）通过轴承转动安装于清洗箱（16）内，两根转管（18）上均由上到下环向等距设有多根翻动管（19），两根转管（18）的上的翻动管（19）呈相互交错设置，每根翻动管（19）均与转管（18）内部相通，每根翻动管（19）上均环向等距嵌设有多根毛刷条（20）和多个出风嘴（21）,多根毛刷条（20）与多组横向成排的出风嘴（21）之间相互交替设置，两根转管（18）其中一根下端延伸至清洗箱（16）下方并固定设有第一锥齿轮（24）,清洗箱（16）底部通过电机支架固定安装有伺服电机（23）,伺服电机（23）的输出轴上固定连接有第二锥齿轮（25），第二锥齿轮（25）与第一锥齿轮（24）啮合，两根转管（18）之间通过皮带传动机构（10）相连接。4.根据权利要求3所述的半导体产品生产加工用清洗装置，其特征在于，两根所述转管（18）上端之间设有输风管（9）,输风管（9）与两根转管（18）之间均通过密封轴承转动连接且两根转管（18）与输风管（9）均内部相通，输风管（9）两端均设有管堵（12），清洗箱（16）侧壁上通过支座固定安装有鼓风机（15）,鼓风机（15）的输出端上固定连接有导风管（13）,导风管（13）远离鼓风机（15）的一端延伸至输风管（9）内，导风管（13）内设有用于将待输入清洗箱（16）内的空气中灰尘过滤清除干净的滤尘网（14）。5.根据权利要求1所述的半导体产品生产加工用清洗装置，其特征在于，所述滤液单元包括过滤网板（4）和滤箱（5），滤箱（5）固定安装于承载底座（1）上，滤箱（5）上部为敞口式结构，过滤网板（4）通过卡槽（29）卡设于滤箱（5）内，清洗箱（16）侧壁上部设有进液管（6）,进液管（6）上设有进液阀（7）,清洗箱（16）侧壁下部设有出液管（27）,出液管（27）远离清洗箱（16）的一端延伸至滤箱（5）内且位于过滤网板（4）上方，出液管（27）上设有出液阀，滤箱（5）侧壁下部设有返液管（3）,返液管（3）远离滤箱（5）的一端与进液管（6）连通，返液管（3）上连接有抽液泵（2）,抽液泵（2）固定安装于承载底座（1）上，过滤网板（4）上对称设有便于将其从滤箱（5）内拉出以对其进行清理的拉环（28）。6.根据权利要求4所述的半导体产品生产加工用清洗装置，其特征在于，所述输风管（9）内设有多道电热网（11）。7.根据权利要求1所述的半导体产品生产加工用清洗装置，其特征在于，所述承载底座（1）底部对称设有多个移动轮（30），移动轮（30）为自锁式滚轮。2CN111744874A说明书1/4页一种半导体产品生产加工用清洗装置技术领域[0001]本发明涉及半导体技术领域，具体是一种半导体产品生产加工用清洗装置。背景技术[0002