一种多晶硅铸锭硅片清洗设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109904094A(43)申请公布日2019.06.18(21)申请号201910042065.5(22)申请日2019.01.17(71)申请人安徽华顺半导体发展有限公司地址239300安徽省滁州市天长市杨村镇工业园区(72)发明人李广森(74)专利代理机构合肥汇融专利代理有限公司34141代理人张雁(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种多晶硅铸锭硅片清洗设备(57)摘要本发明涉及一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，包括加工箱体、抛光轴、驱动机、转轴、内箱、集水槽、泵体、电机一、滑轮、传动轴、绳索、电机二、支架、高压喷头、滑块、齿条、齿轮和安装轴，转轴转动连接在加工箱体内部，且与驱动机的输出端传动连接，抛光轴设置在转轴上，内箱位于集水槽上方，两个滑轮对称转动连接在传动轴上，滑轮通过绳索与内箱固定连接，传动轴与电机一的输出端传动连接，齿条通过滑块滑动连接在加工箱体内部，齿轮通过安装轴转动连接在加工箱体内部，高压喷头铜鼓支架与齿条固定连接，本发明结构优良，设计合理，操作简便，消除抛光死角，抛光清洗二合一，具有广泛地应用前景，创造性强。CN109904094ACN109904094A权利要求书1/1页1.一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，包括装置主体、升降机构(2)和清洗机构(9)，其特征在于：所述装置主体包括加工箱体(1)、抛光轴(3)、驱动机(4)、转轴(5)、内箱(6)、集水槽(7)、泵体(8)和支腿(10)，所述支腿(10)设置在加工箱体(1)下端面，所述驱动机(4)设置在加工箱体(1)顶端面中间位置，所述转轴(5)转动连接在加工箱体(1)内部，且与驱动机(4)的输出端传动连接，所述抛光轴(3)设置在转轴(5)上，所述集水槽(7)设置在加工箱体(1)内部底端面，所述内箱(6)位于集水槽(7)上方；所述升降机构(2)设置在加工箱体(1)内部上侧，所述升降机构(2)包括电机一(21)、滑轮(22)、传动轴(23)和绳索(24)，所述传动轴(23)转动连接在加工箱体(1)内部靠上部位，所述滑轮(22)设有两个，两个滑轮(22)对称转动连接在传动轴(23)上，所述滑轮(22)通过绳索(24)与内箱(6)固定连接，所述传动轴(23)与电机一(21)的输出端传动连接；所述清洗机构(9)包括辅助清洁组件(91)和电机二(92)，所述电机二(92)设置在加工箱体(1)底端面，所述辅助清洁组件(91)设有两个，两个所述辅助清洁组件(91)对称设置在加工箱体(1)内部，所述辅助清洁组件(91)包括支架(911)、高压喷头(912)、滑块(913)、齿条(914)、齿轮(915)和安装轴(916)，所述齿条(914)通过滑块(913)滑动连接在加工箱体(1)内部，所述齿轮(915)通过安装轴(916)转动连接在加工箱体(1)内部，所述齿轮(915)的齿槽与齿条(914)的齿槽相啮合，所述高压喷头(912)铜鼓支架(911)与齿条(914)固定连接。2.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，其特征在于：所述支腿(10)设有四个，四个所述支腿(10)分别设置在加工箱体(1)下端面四个棱角处。3.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，其特征在于：所述加工箱体(1)前端面铰接有箱门(11)，箱门(11)中间位置设置有透明观察窗(13)，箱门(11)前端面上侧设置有把手(12)。4.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，其特征在于：所述泵体(8)通过软管与高压喷头(912)连接。5.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，其特征在于：所述内箱(6)底端面开设有漏孔(a)。6.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，其特征在于：所述集水槽(7)内部设置有过滤网，且过滤网为双层结构。7.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，其特征在于：两个所述安装轴(916)之间通过同步带传动连接，且安装轴(916)与电机二(92)的输出端传动连接。8.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备，其特征在于：所述抛光轴(3)设有若干个，若干个所述抛光轴(3)呈环形等距排布于转轴(5)环形侧面。2CN109904094A说明书1/3页一种多晶硅铸锭硅片清洗设备技术领域[0001]本发明涉及硅片清洗设备领域，具体为一种多晶硅铸锭硅片清洗设备。背景技术[0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗