一种蚀刻装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110416128A(43)申请公布日2019.11.05(21)申请号201910675367.6(22)申请日2019.07.24(71)申请人深圳市华星光电技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号(72)发明人李嘉(74)专利代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300代理人黄威(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)G02F1/13(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种蚀刻装置(57)摘要本发明提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置包括：支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。本发明的蚀刻装置，能够提高产品良率。CN110416128ACN110416128A权利要求书1/1页1.一种蚀刻装置，其特征在于，包括：支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述清洁件的宽度大于或等于所述滚轮的宽度。3.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述滚轮与所述清洁件一一对应。4.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述清洁件的顶表面的形状和\或底表面的形状为弧形。5.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括：多个并排设置的第二传送滚轴，设于所述支撑体上，每个所述第二传送滚轴上套装有多个所述清洁件；其中所述第一传送滚轴的高度与所述第二传送滚轴的高度不等。6.根据权利要求5所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括升降组件，所述升降组件与所述第二传送滚轴连接，所述升降组件用于对所述第二传送滚轴的高度进行调节。7.根据权利要求5所述的蚀刻装置，其特征在于，所述蚀刻装置还包括驱动组件，所述驱动组件与所述第二传送滚轴连接，所述驱动组件用于使所述第二传送滚轴转动。8.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述支撑体还包括底板和侧壁，所述底板设置在所述侧壁的下方，所述清洁件固定在所述底板上。9.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述清洁件设置在所述滚轮的下方和/或者上方。10.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其特征在于，所述清洁件的材料包括人造纤维、海绵、无尘布中的至少一种。2CN110416128A说明书1/3页一种蚀刻装置【技术领域】[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种蚀刻装置。【背景技术】[0002]在液晶显示面板制造过程中，湿法蚀刻装置应用十分广泛，涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工序。[0003]湿法蚀刻装置通常包括一排传送滚轴，在每个传送滚轴上设置有多个滚轮，通过传送滚轴的转动带动滚轮转动，以便于对基板进行传送。[0004]但是，滚轮长期在各种酸性、碱性、有机药液的环境下浸泡或风干会造成滚轮磨损，从而产生尘粒，此时再与基板接触，会刮伤基板或者将尘粒粘在基板上，从而降低产品良率。[0005]因此，有必要提供一种蚀刻装置，以解决现有技术所存在的问题。【发明内容】[0006]本发明的目的在于提供一种蚀刻装置，能够提高产品良率。[0007]为解决上述技术问题，本发明提供一种蚀刻装置，包括：[0008]支撑体；[0009]多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；[0010]多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。[0011]本发明的蚀刻装置，包括支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应，由于在与滚轮对应的位置增加清洁件，从而能够在制程前对滚轮进行有效的清洁，防止尘粒刮伤基板或粘在基板上，进而提高了产品良率。【附图说明】[0012]图1为现有刻装置的结构示意图。[0013]图2为本发明的蚀刻装置的结构示意图。[0014]图3为图2中蚀刻装置的正视图。【具体实施方式】[0015]以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式