清洗装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110434114A(43)申请公布日2019.11.12(21)申请号201910538343.6(22)申请日2019.06.20(71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司地址100176北京市北京经济技术开发区文昌大道8号(72)发明人张洪蛟李爱兵(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人彭瑞欣张天舒(51)Int.Cl.B08B3/04(2006.01)B08B3/08(2006.01)B08B3/10(2006.01)B08B9/023(2006.01)H01L21/673(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称清洗装置(57)摘要本发明提供一种清洗装置，用于对石英管及石英舟清洗，包括工艺槽、滚动机构及机械手；所述工艺槽用于提供清洗液以清洗所述石英管及所述石英舟；所述滚动机构包括滚轮，所述滚轮设置于所述工艺槽内，用于带动所述石英管转动；所述机械手位于所述工艺槽的上方，用于带动所述石英管及所述石英舟水平和垂直运动。本申请实施例的清洗装置不仅可以对石英舟进行清洗，而且还可以实现对石英管进行清洗，有效提高了本申请实施例的兼容性，扩展了使用范围。另外还可以提高清洗效率以及有效提升清洗效果。CN110434114ACN110434114A权利要求书1/1页1.一种清洗装置，用于对石英管及石英舟清洗，其特征在于，包括工艺槽、滚动机构及机械手；所述工艺槽用于提供清洗液以清洗所述石英管及所述石英舟；所述滚动机构包括滚轮，所述滚轮设置于所述工艺槽内，用于带动所述石英管转动；所述机械手位于所述工艺槽的上方，用于带动所述石英管及所述石英舟水平和垂直运动。2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述滚动机构还包括驱动部以及传动件，所述驱动部设置于所述工艺槽的外侧，所述传动件分别与所述驱动部及所述滚轮传动连接。3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动部包括防护罩及马达，所述防护罩包覆于所述马达外侧，用于对马达形成防护。4.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述滚轮设置于所述工艺槽的底部，所述传动件与所述滚轮的连接处靠近所述工艺槽的侧壁设置。5.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述传动件为链条传动件或皮带传动件，所述滚轮上有与所述传动件连接的链轮或皮带轮。6.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述滚动机构还包括导向轮，所述导向轮设置于所述工艺槽的侧壁，用于将所述传动件导向至所述滚轮。7.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述工艺槽内清洗液的液位高度尺寸大于所述石英管的半径尺寸。8.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述工艺槽包括一个以上的超纯水工艺槽以及两个以上的化学工艺槽，所述超纯水工艺槽用于提供一超纯水以清洗所述石英管及石英舟，各所述化学工艺槽用于提供一化学清洗液以清洗所述石英管及石英舟。9.如权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述工艺槽分别设置于两个工艺区，且各所述工艺区内均设置有至少一个所述超纯水工艺槽及至少一个所述化学工艺槽；以及在所述两个工艺区的至少一个工艺区内的所述工艺槽内设置有所述滚轮。10.如权利要求9所述的清洗装置，其特征在于，所述机械手为两个，且分别设置于所述两个工艺区内。11.如权利要求1至10的任一项所述的清洗装置，其特征在于，还包括花篮，设置于所述机械手上用于承载所述石英舟；以及，各所述工艺槽还连通有鼓气装置，用于对所述工艺槽内的液体进行搅动。2CN110434114A说明书1/6页清洗装置技术领域[0001]本发明涉及半导体制造领域，具体地，涉及一种清洗装置。背景技术[0002]目前，在硅片扩散工艺中，硅片放置在石英舟中，然后将装有硅片的石英舟一起放入石英管，并且一起放入至高温扩散炉中。在高温扩散炉中，在炉管的尾部通入一定量含有扩散源的气体，在高温条件下，通过扩散源气体与硅片发生化学反应，完成扩散工艺。每次扩散工艺后，石英舟及石英管表面都会残存相应扩散工艺后的微粒。如石英舟与石英管未经清洗后再次使用，对硅片的清洁度及良率都会造成不良影响。[0003]现有技术中仅提出了如何对石英舟清洗的装置，无法兼容对石英管进行清洗，并且现有技术中对于石英舟清洗装置效率较低。发明内容[0004]本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种清洗装置。[0005]为实现本发明的目的而提供一种清洗装置，用于对石英管及石英舟清洗，包括工艺槽、滚动机构及机械手；[0006]所述工艺槽用于提供清洗液以清洗所述石英管及所述石英舟；所述滚动机构包括滚轮，所述滚轮设置于所述工艺槽内，用于带动所述石英管转动；[0007]所述机械手位于所述工艺槽的上方，用于带