清洗装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108212921A(43)申请公布日2018.06.29(21)申请号201810085607.2(22)申请日2018.01.29(71)申请人枣庄维信诺电子科技有限公司地址277000山东省枣庄市高新区互联网小镇15号楼322号(72)发明人曹瑞丰(74)专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250代理人陈博旸(51)Int.Cl.B08B3/12(2006.01)B08B3/08(2006.01)B08B3/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称清洗装置(57)摘要本发明涉及基板清洗技术领域，公开的一种清洗装置包括用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构，与所述输送机构相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元、药液清洗单元、二流体清洗单元、纯水清洗单元以及干燥单元。由此，该清洗装置通过多个清洗环节对待清洗基板进行清洗，能够彻底洗净基板表面残余的抛光液，提高了基板的良率，避免因基板上残留抛光液而导致有机电致发光器件使用效果变差。CN108212921ACN108212921A权利要求书1/1页1.一种清洗装置，其特征在于，包括：用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构(1)；与所述输送机构(1)相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元(4)、药液清洗单元(6)、二流体清洗单元(7)、纯水清洗单元(8)以及干燥单元(9)。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述输送机构(1)包括：传送件(101)，用于放置所述待清洗基板；驱动件(102)，与所述传送件(101)连接，用于驱动所述传送件(101)运转。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述传送件(101)包括沿所述第一方向间隔排列的输送辊。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述传送件(101)为传送带。5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，在所述超声波清洗单元(4)和所述药液清洗单元(6)之间还设置有鼓泡清洗单元(5)。6.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，在所述超声波清洗单元(4)前还设置有纯水浸泡单元(3)。7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述干燥单元(9)包括风刀(901)以及与之相连的储气件(902)。8.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述药液清洗单元(6)、所述二流体清洗单元(7)以及所述纯水清洗单元(8)中均设有喷淋组件。9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述喷淋组件包括：喷嘴(1101)，用于喷洒所述药液清洗单元(6)、所述二流体清洗单元(7)以及所述纯水清洗单元(8)中的处理液；流量调节件(1102)，与所述喷嘴(1101)连接，用于调节所述喷嘴(1101)的喷洒量。10.根据权利要求9所述的清洗装置，其特征在于，所述喷淋组件还包括：角度调节件(1103)，与所述喷嘴(1101)连接，用于调节所述喷嘴(1101)的喷洒角度。2CN108212921A说明书1/6页清洗装置技术领域[0001]本发明涉及基板清洗技术领域，具体涉及一种清洗装置。背景技术[0002]随着信息技术的发展，有机电致发光器件因其具有高对比度、广视角、低功耗、体积薄等优点，已成为目前平板显示技术中最受关注的技术之一。[0003]在制造有机电致发光器件的过程中，为了使得有机电致发光器件基板平坦化，通常会对其进行化学机械抛光(CMP)工艺处理。化学机械抛光工艺是利用了磨损中的“软磨硬”原理，首先在待抛光基板上形成一层抛光液液体薄膜，抛光液中的化学成分与基板表面材料发生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从基板表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜交替过程中实现抛光的目的。[0004]抛光后的基板表面具有残留的抛光液，需要对其进行清洗后才能使用。目前对抛光后的基板进行清洗的方式一般是采用成本最低的纯水清洗，但是仅通过纯水清洗无法彻底洗净基板表面残余的抛光液，进而大大降低了基板的良率以及有机电致发光器件的使用效果。发明内容[0005]为此，本发明所要解决的技术问题是如何解决抛光后基板表面的抛光液残留。[0006]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下：[0007]本发明提供了一种清洗装置，包括：[0008]用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构；[0009]与所述输送机构相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元、药液清洗单元、二流体清洗单元、纯水清洗单元以及干燥单元。[0010]可选地，所述输送机构包括：[0011]传送件，用于放置所述待清洗基