清洗装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115995409A(43)申请公布日2023.04.21(21)申请号202310108974.0(22)申请日2023.01.31(71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司地址100176北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号(72)发明人张亚斌王昭王锐廷南建辉赵宏宇李嘉(74)专利代理机构北京国昊天诚知识产权代理有限公司11315专利代理师施敬勃(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)权利要求书3页说明书9页附图3页(54)发明名称清洗装置(57)摘要本申请公开一种清洗装置。所公开的清洗装置用于清洗晶圆夹持机构。所公开的清洗装置包括装置主体和调节件，装置主体设有进水口和与进水口连通的过水空间，调节件与装置主体相连，且调节件与装置主体形成水幕喷射缝隙，水幕喷射缝隙与过水空间连通；调节件可相对于装置主体具有多个相对位置，调节件处在不同的相对位置时与装置主体形成的水幕喷射缝隙的第一尺寸均不相等，第一尺寸为调节件与装置主体用于形成水幕喷射缝隙的部位之间的距离。上述方案能解决相关技术涉及的清洗装置存在的水幕喷射缝隙无法较好地适应不同供水场景下的清洗任务的问题。CN115995409ACN115995409A权利要求书1/3页1.一种清洗装置，用于清洗晶圆夹持机构，其特征在于，所述清洗装置包括装置主体(100)和调节件(200)，所述装置主体(100)设有进水口(101)和与所述进水口(101)连通的过水空间(102)，所述调节件(200)与所述装置主体(100)相连，且所述调节件(200)与所述装置主体(100)形成水幕喷射缝隙(103)，所述水幕喷射缝隙(103)与所述过水空间(102)连通；所述调节件(200)可相对于所述装置主体(100)具有多个相对位置，所述调节件(200)处在不同的所述相对位置时与所述装置主体(100)形成的所述水幕喷射缝隙(103)的第一尺寸均不相等，所述第一尺寸为所述调节件(200)与所述装置主体(100)用于形成所述水幕喷射缝隙(103)的部位之间的距离。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述装置主体(100)包括外延部(110)，所述外延部(110)位于所述装置主体(100)的边缘，且沿所述水幕喷射缝隙(103)的喷射方向凸出，所述调节件(200)可活动地连接于所述装置主体(100)，且与所述外延部(110)相对设置，所述外延部(110)与所述调节件(200)间隔设置，以形成所述水幕喷射缝隙(103)，所述水幕喷射缝隙(103)位于所述边缘。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述调节件(200)设有第一连接孔(201)，所述装置主体(100)设有第二连接孔(104)，所述清洗装置还包括连接件(300)，所述连接件(300)穿过所述第一连接孔(201)，且与所述第二连接孔(104)固定连接；所述调节件(200)通过所述连接件(300)与所述装置主体(100)相连，所述第一连接孔(201)与所述连接件(300)在所述水幕喷射缝隙(103)的开合方向可滑动配合。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述第一连接孔(201)为腰型孔，且沿所述水幕喷射缝隙(103)的开合方向延伸。5.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括顶丝(400)，所述外延部(110)设有第一螺纹孔，所述顶丝(400)与所述第一螺纹孔螺纹配合，所述顶丝(400)穿过所述第一螺纹孔的端部可与所述调节件(200)配合，所述顶丝(400)在转动的情况下可驱动所述调节件(200)移动，以调节所述第一尺寸。6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括挡水部件(500)，所述调节件(200)与所述挡水部件(500)相抵接，所述外延部(110)的朝向所述调节件(200)的表面的两端均设有第一定位槽(111)，位于所述外延部(110)的两端的所述第一定位槽(111)均设有所述挡水部件(500)，所述挡水部件(500)封堵所述水幕喷射缝隙(103)的两端，以保证所述水幕喷射缝隙(103)的第二尺寸不变，所述顶丝(400)穿过所述第一螺纹孔的端部与所述挡水部件(500)接触，所述顶丝(400)在转动的情况下可通过驱动所述挡水部件(500)带动所述调节件(200)移动，以调节所述第一尺寸，所述第一尺寸为所述水幕喷射缝隙(103)在第一方向的尺寸，所述第二尺寸为所述水幕喷射缝隙(103)在第二方向的尺寸，所述第一方向与所述第二方向相垂直，所述第二方向与所述水幕喷射缝隙(103)的贯通方向相垂直。7.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述外延部(110)与所述调节件(200)的相对的表面分别为第一