传片系统及光刻机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110436203A(43)申请公布日2019.11.12(21)申请号201910756610.7(22)申请日2019.08.16(71)申请人吉林华微电子股份有限公司地址132013吉林省吉林市高新区深圳街99号(72)发明人齐兆宇(74)专利代理机构北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)11463代理人张洋(51)Int.Cl.B65G51/01(2006.01)B65G13/00(2006.01)B65G39/02(2006.01)G03F7/20(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称传片系统及光刻机(57)摘要本发明提供了一种传片系统及光刻机，涉及光刻机的技术领域，包括传送轨道和预对准机构；传送轨道两侧边缘设有贴片，贴片配置成传送过程中避免被加工件与传送轨道的工作面摩擦；预对准机构包括分别位于传送轨道两侧的驱动导轮和预对准定位轮，驱动导轮上设有第一导轮槽，驱动导轮配置成与预对准定位轮配合抵接被加工件，且驱动卡入第一导轮槽内的被加工件旋转。本发明的目的在于提供一种传片系统及光刻机，以缓解了现有技术中存在的硅片关键区域划伤的技术问题。CN110436203ACN110436203A权利要求书1/1页1.一种传片系统，其特征在于，包括：传送轨道(100)和预对准机构(200)；所述传送轨道(100)两侧边缘设有贴片(110)，所述贴片(110)配置成传送过程中避免被加工件与所述传送轨道(100)的工作面摩擦；所述预对准机构(200)包括分别位于所述传送轨道(100)两侧的驱动导轮(210)和预对准定位轮(220)，所述驱动导轮(210)上设有第一导轮槽(211)，所述驱动导轮(210)配置成与所述预对准定位轮(220)配合抵接所述被加工件，且驱动卡入所述第一导轮槽(211)内的所述被加工件旋转。2.根据权利要求1所述的传片系统，其特征在于，所述贴片(110)采用铁氟龙材料制作而成。3.根据权利要求1所述的传片系统，其特征在于，所述传送轨道(100)上设有传送气孔(120)，所述传送气孔(120)朝向所述被加工件的传送方向倾斜，以吹动所述被加工件移动。4.根据权利要求3所述的传片系统，其特征在于，所述传送气孔(120)包括轴线重合且彼此连通的第一腔体(121)和第二腔体(122)，所述第一腔体(121)的轴线朝向所述被加工件的传送方向倾斜；所述第一腔体(121)靠近所述传送轨道(100)的工作面且所述第一腔体(121)的内径小于所述第二腔体(122)的内径。5.根据权利要求1所述的传片系统，其特征在于，所述第一导轮槽(211)位于所述驱动导轮(210)靠近所述传送轨道(100)工作面的一端，且所述第一导轮槽(211)为V型槽。6.根据权利要求1所述的传片系统，其特征在于，所述预对准定位轮(220)上设有第二导轮槽(221)，所述第二导轮槽(221)位于所述预对准定位轮(220)靠近所述传送轨道(100)工作面的一端。7.根据权利要求1所述的传片系统，其特征在于，所述传片系统还包括吸附机构(300)，沿所述被加工件传送方向，所述吸附机构(300)位于所述预对准机构(200)前方；所述吸附机构(300)包括吸附部(310)，所述吸附部(310)上设有多个吸盘(311)，多个所述吸盘(311)沿所述传送轨道(100)的延伸方向间隔设置。8.根据权利要求7所述的传片系统，其特征在于，所述吸盘(311)采用橡胶材料制成。9.根据权利要求7所述的传片系统，其特征在于，所述传片系统还包括承片台(400)，沿所述被加工件传送方向，所述承片台(400)位于所述吸附机构(300)前方；所述承片台(400)上设有反吹气孔(410)，所述反吹气孔(410)配置成始终使所述被加工件浮于所述承片台(400)上方。10.一种光刻机，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的传片系统。2CN110436203A说明书1/6页传片系统及光刻机技术领域[0001]本发明涉及光刻机技术领域，尤其是涉及一种传片系统及光刻机。背景技术[0002]光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，现有的光刻机设计都为气浮轨道式传片。气浮轨道传送方式只能进行常规单面硅片的传送，在传送过程中容易发生预对准单元及气浮轨道单元划伤硅片的关键区域，极大降低产品质量。[0003]公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本发明的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种传片系统及光刻机，以缓解了现有技术中存在的硅片关键区域划伤的技术问题。[0