薄膜展平装置和薄膜制备设备.pdf
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薄膜展平装置和薄膜制备设备.pdf
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用于薄膜制备装置的刀辊组件和薄膜制备装置.pdf
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用于电容器薄膜料卷的展平裁切装置.pdf
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半导体薄膜制备装置及制备方法.pdf
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本发明提供一种具有更优异的偏光度的偏光薄膜的制造方法。一种偏光薄膜的制造方法,该偏光薄膜的制造方法具有染色工序,在该染色工序中,利用配置于放入有染色液的染色槽(51)中的两个以上的导辊(53)来输送薄膜(2),且将所述薄膜(2)浸渍于染色液中,其中,至少1个所述导辊(53)具有算数平均粗糙度Ra为5.0μm以下的表面粗糙度。