一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112959525A(43)申请公布日2021.06.15(21)申请号202110102488.9(22)申请日2021.01.26(71)申请人鞍山市激埃特光电有限公司地址114000辽宁省鞍山市立山区越岭路262号辽宁激光产业园南园4号楼中座1-2层(72)发明人林新锋(51)Int.Cl.B28D5/00(2006.01)B28D7/04(2006.01)B24B7/22(2006.01)B24B29/02(2006.01)C23C14/02(2006.01)C23C14/24(2006.01)C23C14/06(2006.01)C23C14/30(2006.01)权利要求书1页说明书6页(54)发明名称一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法(57)摘要本发明涉及一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法，其操作过程包括开料；铣磨；对上表面、下表面及相对侧面分别进行双面精磨：双面研磨抛光机采用带有孔的游星轮，碳化硅作为研磨液；采用氧化铝抛光液，对毛坯双面进行抛光；在真空环境下进行蒸镀镀膜；双面贴保护玻璃；在切削液下进行切割，产品放入装有二氯甲烷溶液中浸泡4±0.5小时，直到保护玻璃和产品完全分离开，然后用丙酮进行擦拭干净。本发明通过双面研磨抛光和胶合相结合的方式，加工效率提升70%，既提高了产品合格率，也解决了镀膜无挡边的问题。CN112959525ACN112959525A权利要求书1/1页1.一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：1）开料：将块料用开料机开成方形的的片料；2）铣磨：毛坯料通过立式铣磨进行表面整平；3）上表面、下表面双面精磨：双面研磨抛光机采用带有孔的游星轮对毛坯上表面、下表面双面进行精磨，采用碳化硅作为研磨液；4)上表面、下表面双面抛光：研磨抛光机的抛光盘表面贴有聚氨酯抛光皮，采用氧化铝抛光液，对毛坯上表面、下表面双面进行抛光；5）上表面、下表面双面镀膜：采用镀膜机，在真空环境下进行蒸镀镀膜；6）上表面、下表面双面贴保护玻璃：双面用UV胶分别胶合上保护玻璃；7）切割：用液蜡将坯料固定于内圆切割机中，在切削液下进行切割；8)一组相对侧面精磨：双面研磨抛光机采用带有孔的游星轮对毛坯相对侧面进行双面精磨，采用碳化硅作为研磨液；9）一组相对侧面双面抛光：研磨抛光机的抛光盘表面贴有聚氨酯抛光皮，采用氧化铝抛光液；10）一组相对侧面冷镀膜：镀膜机中，抽真空，打开离子源并调整离子源强度，通过降低电子枪发射频率使镀膜温度降低到120摄氏度，坯料表面镀膜；11)一组相对侧面贴保护玻璃：双面用UV胶分别胶合上保护玻璃；12）一组相对侧面切割：用液蜡将坯料固定于内圆切割机中，在切削液下进行切割；13）另一组相对侧面精磨：双面研磨抛光机采用带有孔的游星轮对毛坯另一组相对侧面双面进行精磨，采用碳化硅作为研磨液；14）另一组相对侧面抛光：研磨抛光机的抛光盘表面贴有聚氨酯抛光皮，采用氧化铝抛光液；15）另一组相对侧面双面冷镀膜：镀膜机中，抽真空，打开离子源并调整离子源强度，通过降低电子枪发射频率使镀膜温度降低到120摄氏度；16）拆胶擦拭：将镀好膜的产品依次放入装有二氯甲烷溶液中，浸泡4±0.5小时，直到保护玻璃和产品完全分离开，然后用丙酮进行擦拭干净。2.根据权利要求1所述一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法，其特征在于，碳化硅研磨液为碳化硅的水溶液，其质量百分含量为50~80%。3.根据权利要求1所述一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法，其特征在于，氧化铝抛光液为氧化铝粉末的水溶液，其比重为1.15~1.20g/ml。4.根据权利要求1所述一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法，其特征在于，所述切削液指三乙醇胺有机水溶性溶液，其三乙醇胺和水的体积配比（1~3):30。5.根据权利要求1所述一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法，其特征在于，所述镀膜的膜层材质为MgF2‑SiO2膜层。6.根据权利要求1所述一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法，其特征在于，所述二氯甲烷溶液的质量百分含量不低于99.0%。2CN112959525A说明书1/6页一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法技术领域[0001]本发明涉及光学元件加工方法技术领域，具体涉及一种无膜欠导光晶体光学元件的加工方法。背景技术[0002]导光晶体可以用于大量的美容仪上，包括IPL光子嫩肤与光子脱毛，利用导光晶体的良好性能，使皮肤表皮温度被有效的控制在安全范围内，使皮下真皮层均匀受热，有效的保护皮肤周围组织不受灼伤。导光晶体六个面需要抛光，并六个面要求满口径镀膜，不能有膜欠，从而造成了加工难度大，优品率低。导光晶体传统加工采用古典抛光工艺，这种工艺需要直接开料成小块料，然后将小块