电解铜箔及其制造方法.pdf
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电解铜箔及其制造方法.pdf
本发明提供一种具有更高导电率的电解铜箔及其制造方法。本发明的电解铜箔中,碳含量为5ppm以下,硫含量为3ppm以下,氧含量为5ppm以下,氮含量为0.5ppm以下,并且碳、硫、氧、氮及氢的总含量为15ppm以下,晶粒数为8.0~12.0个/μm
减少电解铜箔边角损伤的铜箔制造装置及其制造工艺.pdf
本发明公开了减少电解铜箔边角损伤的铜箔制造装置,包括工作台,工作台底部的四角均焊接有固定支腿,固定支腿的底部安装有防滑蹄脚,工作台的一侧固定安装有控制器,工作台上端面的四角均设有升降机构,升降机构固定在工作台上,升降机构的顶部焊连安装槽。本减少电解铜箔边角损伤的铜箔制造装置,阴极辊两端部的密封装置能够对阴极辊的两端进行封闭,解决了阴极辊通电浸入电解液中时,阴极辊的表面及边部铜层积累的问题,使得阴极辊的表面及边部的抛磨光滑,能够减少铜箔剥落时造成边角损伤的风险,降低成本,提高工作效率,通过挤压压缩弹簧能够使
电解铜箔用添加剂、电解铜箔用电解液、铜箔及其制备方法.pdf
本发明涉及电解铜箔技术领域,具体涉及一种电解铜箔用添加剂、电解铜箔用电解液、铜箔及其制备方法。该电解铜箔用添加剂包括:聚二硫二丙烷磺酸钠、醇硫基丙烷磺酸钠、高分子胶、聚乙二醇和羟乙基纤维素;其中,聚二硫二丙烷磺酸钠、醇硫基丙烷磺酸钠、高分子胶、聚乙二醇和羟乙基纤维素的质量比为3‑30:1‑15:5‑50:1‑20:1‑10。本发明提供的电解铜箔用添加剂,通过特定组分之间的协同作用,解决了铜箔力学性能差的问题,使得得到的铜箔具有制备方法简单,力学性能好的优点。
电解铜箔及其制造方法、表面处理电解铜箔、覆铜层压板及印刷电路板.pdf
本发明的目的是提供一种电解铜箔,其与以往市场上供给的低轮廓电解铜箔相比,为更低的低轮廓而且具有光泽。为了达成该目的,采用一种电解铜箔,其具有与厚度无关的析出面侧的表面粗糙度(Rzjis)低于1.0μm的超低轮廓,且该析出面的光泽度[Gs(60°)]为400以上。而且还提供一种电解铜箔的制造方法,其是对硫酸类铜电解液进行电解而得到电解铜箔的方法,该硫酸类铜电解液含有3-巯基-1-丙磺酸及/或二(3-磺基丙基)二硫化物、具有环状结构的季铵盐聚合物以及氯。
电解铜箔、包含其的电极、二次电池及其制造方法.pdf
提供了一种基本上无起皱缺陷的电解铜箔、包含其的电极、包含其的二次电池、及其制造方法。本发明的电解铜箔具有第一表面和相对于第一表面的第二表面,第一表面和第二表面各具有4.8至16.1的轮廓最大比(PMR),并且电解铜箔具有0.49至1.28的(220)面的织构系数[TC(220)]、35kgf/mm