用于向衬底提供辐射的设备和方法.pdf
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相关资料
用于向衬底提供辐射的设备和方法.pdf
描述了一种可操作以向衬底的多个目标区域提供名义剂量辐射的光刻设备和关联方法。名义剂量辐射经过多次曝光被提供给衬底的多个目标区域中的每个目标区域。将名义剂量辐射提供给每个目标区域涉及使目标区域的第一区域曝光于辐射,而目标区域的第二部分未被曝光于辐射(第一部分和第二部分的形状和配置取决于被成像的图案)。每个目标区域的曝光次数是根据描述衬底的该目标区域响应于接收到热负载的机械行为的数据来确定的。热负载对应于在目标区域的第一部分被提供名义剂量辐射时接收的热负载。
用于分隔衬底的设备和方法.pdf
用于分隔衬底的设备,具有:支托面,容纳具有第一表面和与其相对的第二表面的衬底板卡,使得衬底板卡以第二表面至少部分搁置在支托面上;第一保持装置,将布置在支托面上的衬底板卡在第一折断过程期间保持在支托面,在第一折断过程期间将第一保持力施加到衬底板卡的第一保持区域;第一折断装置,在第一折断过程期间将第一折断力施加到衬底板卡的第一折断区域,以便部分分隔衬底板卡;第二保持装置,将在第一折断过程后被部分分隔的衬底板卡在第二折断过程期间保持在支托面上,在第二折断过程期间将第二保持力施加到衬底板卡的第二保持区域;第二折断
用于接合衬底的设备和方法.pdf
本发明涉及一种用于将第一衬底(2)与第二衬底(2)在所述衬底(2,2)的接触面(2o,2o)处接合的方法,其具有如下步骤、尤其是如下流程:?用保持力F<base:Sub>H1</base:Sub>将所述第一衬底(2)保持在第一样品支架(1)的第一样品支架表面(1o)上,以及用保持力F<base:Sub>H2</base:Sub>将所述第二衬底(2)保持在第二样品支架(1)的第二样品支架表面(1o)上,?将所述接触面(2o,2o)在接合发起部位(20)处接触并且至少将所述第二样品支架表面(1o,1o)加热到
用于向空气分离设备提供补充制冷的方法和系统.pdf
本发明提供了一种用于向空气分离设备提供补充制冷的系统和方法。闭环补充制冷回路可易于改造或添加到空气分离设备,从而提高所述空气分离设备的液态产物制备能力。通过以下方式控制所述补充制冷回路的补充制冷容量:在所述补充制冷回路中去除或添加制冷剂的一部分以调节入口压力,同时保持压缩机上基本上恒定的体积流量和基本上恒定的压力比。从所述补充制冷回路去除所述制冷剂会降低所述补充制冷回路所赋予的所述制冷,因此在不关停所述补充制冷回路中的所述压缩机和涡轮膨胀器的情况下,提供对液态产物制备进行降负荷的能力。
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本发明涉及一种用于通过将平面衬底(2,2′)的接触侧(2o)与载体衬底(5,5′)的支撑面(5o)对准、接触和接合来制造衬底-产品衬底-组合的方法,其中,所述衬底(2,2′)在接触时具有比所述载体衬底(5,5′)的平均直径d2更大的平均直径d1。此外,本发明还涉及一种用于通过将平面衬底(2,2′)的接触侧(2o)与载体衬底(5,5′)的支撑面(5o)对准、接触和接合来制造衬底-产品衬底-组合的衬底(2,2′),其中,所述衬底(2,2′)具有直径d1,该直径在背面减薄时可通过所述衬底(2,2′)的横截面的形