开口结构及其形成方法、接触插塞及其形成方法.pdf
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开口结构及其形成方法、接触插塞及其形成方法.pdf
一种开口结构及其形成方法、接触插塞及其形成方法,所述开口结构的形成方法,提供基底,所述基底中形成有目标层,所述基底露出所述目标层的表面;在所述目标层表面上形成环形垫片,所述环形垫片中间具有暴露出目标层部分表面的中央通孔;形成覆盖基底、目标层、环形垫片的介质层;刻蚀所述介质层,在介质层中形成与中央通孔连通的刻蚀孔,所述刻蚀孔和中央通孔构成开口结构。通过形成环形垫片,在介质层中形成刻蚀孔时,当刻蚀孔存在弯曲或者位置偏移时,所述环形垫片能防止刻蚀孔底部的侧向刻蚀,使得刻蚀孔的底部被导引至环形垫片之间的中央通孔中
接触窗结构、金属插塞及其形成方法、半导体结构.pdf
一种接触窗结构、金属插塞及其形成方法,所述接触窗结构的形成方法、半导体结构,在目标层表面上形成环形垫片,所述环形垫片中间具有暴露出目标层部分表面的中央通孔;形成覆盖所述基底、目标层和环形垫片的介质层;刻蚀所述介质层,在所述介质层中形成与中央通孔连通的刻蚀孔;沿刻蚀孔和中央通孔去除所述环形垫片,使得中央通孔的尺寸变大,所述刻蚀孔与尺寸变大后的中央通孔构成接触窗结构。通过形成的环形垫片,在形成接触窗结构时,通过去除所述环形垫片时,可以使得中央通孔的尺寸变大,从而使得接触窗结构底部的尺寸会变大,在接触窗结构中形
接触开口及其形成方法.pdf
方法包括对第一层的部分实施注入以形成注入区域,并且去除第一层的未注入部分。在去除第一层的未注入部分之后,注入区域保留。之后,对第一层下面的第二层实施蚀刻,其中,注入区域用作蚀刻中的第一蚀刻掩模的部分。去除注入区域。使用第二层蚀刻金属掩模以形成图案化的掩模。之后,蚀刻层间电介质以形成接触开口,其中,图案化的掩模用作第二蚀刻掩模。本发明的实施例还涉及接触开口及其形成方法。
一种接触插塞的测试结构及其形成方法、测试方法.pdf
本公开实施例公开了一种接触插塞的测试结构,所述测试结构包括:衬底;设置于所述衬底上的多个有源区域;设置于所述衬底上的多个接触插塞,同一所述有源区域上形成至少两个接触插塞,且所述接触插塞的底部与所述有源区域电连接;多个连接件,每一所述连接件电连接分别位于不同有源区域上的所述接触插塞,使得所述有源区域、所述接触插塞和所述连接件形成串联结构;位于所述衬底上的多个伪栅极,所述伪栅极至少位于所述接触插塞的一侧。本公开的测试结构与实际集成电路应用的结构更加接近,这样的测试结构更加能够反映接触插塞的工艺情况,可以较准确
接触插塞的形成方法.pdf
本发明提供了一种接触插塞的形成方法,在对形成有接触孔的基底执行清洗工艺之后,以及在向所述接触孔填充导电材料之前,增加了对所述基底执行的烘烤工艺。从而,使得接触孔中残留的清洗剂受热蒸发,实现了残留的清洗剂的去除,并使后续形成在接触孔中的接触插塞不会受到残留的清洗剂的影响。最终,保证了接触插塞的填充效果,保障了半导体器件与金属互连层的连接及电性能,提高了成品率。